武汉优光科技有限责任公司方志原获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉优光科技有限责任公司申请的专利一种离轴抛物面反射镜面形检测装置获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN222912658U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-27发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202422007405.X,技术领域涉及:G01B11/24;该实用新型一种离轴抛物面反射镜面形检测装置是由方志原;贺鹏;肖志全;马千里设计研发完成,并于2024-08-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种离轴抛物面反射镜面形检测装置在说明书摘要公布了:本实用新型公开一种离轴抛物面反射镜面形检测装置,包括底座和滑动轨道二,所述底座上设置有滑动轨道一,所述滑动轨道一上滑动设置有固定块一,所述固定块一上设置有用于水平夹持离轴抛物面反射镜的安装夹具,所述滑动轨道二的一端可转动的连接在底座上,所述滑动轨道二上滑动设置有固定块二,所述固定块二上设置有用于反射离轴抛物面反射镜反射的光线的凹面镜;本实用新型有着操作方便、结构简单、精度高的优点。
本实用新型一种离轴抛物面反射镜面形检测装置在权利要求书中公布了:1.一种离轴抛物面反射镜面形检测装置,其特征在于,包括底座和滑动轨道二,所述底座上设置有滑动轨道一,所述滑动轨道一上滑动设置有固定块一,所述固定块一上设置有用于水平夹持离轴抛物面反射镜的安装夹具,所述滑动轨道二的一端可转动的连接在底座上,所述滑动轨道二上滑动设置有固定块二,所述固定块二上设置有用于反射离轴抛物面反射镜反射的光线的凹面镜。
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