甬江实验室万青获国家专利权
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龙图腾网获悉甬江实验室申请的专利一种用于集成光子/电子器件的衬底表面刻蚀设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN222908161U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-27发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202421953977.0，技术领域涉及：C30B33/10；该实用新型一种用于集成光子/电子器件的衬底表面刻蚀设备是由万青;马雨晞;乐先浩;朱一新设计研发完成，并于2024-08-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种用于集成光子/电子器件的衬底表面刻蚀设备在说明书摘要公布了：本实用新型提供一种用于集成光子电子器件的衬底表面刻蚀设备，包括容器、位于所述容器中的支撑台以及声波产生装置；所述容器用于盛放包括液体与微纳米颗粒的混合液；所述衬底表面设置图案化的阻挡层，所述衬底表面存在未被所述阻挡层覆盖而裸露的区域；工作状态时，所述衬底固定在所述支撑台表面，所述支撑台浸没于所述混合液中，所述声波产生装置产生声波传递至所述混合液。该设备简单易操作、成本低，利用该刻蚀设备能够使所述微纳米颗粒在声波的驱动作用下撞击衬底表面的裸露区域而实现该区域的刻蚀，具有无污染、可控性强，适合集成光子电子器件的衬底刻蚀的大规模应用。
本实用新型一种用于集成光子/电子器件的衬底表面刻蚀设备在权利要求书中公布了：1.一种用于集成光子电子器件的衬底表面刻蚀设备，其特征是：包括容器、位于所述容器中的支撑台以及声波产生装置；所述容器用于盛放包括液体与微纳米颗粒的混合液；所述衬底表面设置图案化的阻挡层，所述衬底表面存在未被所述阻挡层覆盖而裸露的区域，称为裸露区域；工作状态时，所述衬底固定在所述支撑台表面，所述支撑台浸没于所述混合液中，所述声波产生装置产生声波传递至所述混合液。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
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