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成都高真科技有限公司朴英植获国家专利权

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龙图腾网获悉成都高真科技有限公司申请的专利半导体清洗设备获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN222914746U

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-27发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202421932242.X,技术领域涉及:H01L21/67;该实用新型半导体清洗设备是由朴英植设计研发完成,并于2024-08-09向国家知识产权局提交的专利申请。

半导体清洗设备在说明书摘要公布了:本实用新型提出了一种半导体清洗装置,包括基座和清洗组件。本实用新型通过基座承载晶圆,清洗组件具有喷射区域不同的第一清洗剂喷射部和第二清洗剂喷射部,第一清洗剂喷射部用于向晶圆的轴向一端的端面中心区域喷射清洗剂,第二清洗剂喷射部用于向晶圆的轴向一端的端面的边缘区域喷射清洗剂,基座和清洗组件两者中的一者能够相对于另一者以晶圆的轴线为旋转轴旋转,使得第一清洗剂喷射部和第二清洗剂喷射部喷射的清洗剂覆盖晶圆的轴向一端的全部端面,进而使得晶圆的端面的中心区域与边缘区域在清洗剂分布更加均匀,从而提高晶圆在清洗后膜质的平坦度,改善蚀刻量的差异。

本实用新型半导体清洗设备在权利要求书中公布了:1.一种半导体清洗装置,其特征在于,包括:基座,设有用于放置晶圆的放置面;清洗组件,所述清洗组件与所述基座相对设置,且所述基座和所述清洗组件被配置为两者中的一者能够相对于另一者以垂直于所述放置面的轴线为旋转轴旋转,所述清洗组件包括第一清洗剂喷射部和第二清洗剂喷射部,沿垂直于所述旋转轴的方向,所述第一清洗剂喷射部的至少部分喷射区域位于所述第二清洗剂喷射部的喷射区域与所述旋转轴之间,所述第二清洗剂喷射部的喷射区域被配置为覆盖所述放置面的至少部分边缘。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人成都高真科技有限公司,其通讯地址为:610000 四川省成都市高新区科新路8号附19号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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