上海健照半导体科技有限公司王威润获国家专利权
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龙图腾网获悉上海健照半导体科技有限公司申请的专利一种光刻机上版架结构获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN222914031U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-27发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202421827747.X，技术领域涉及：G03F7/20；该实用新型一种光刻机上版架结构是由王威润;杨伟才;付帅设计研发完成，并于2024-07-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种光刻机上版架结构在说明书摘要公布了：本实用新型提供一种光刻机上版架结构，涉及光刻机上版架技术领域，包括：板架本体，所述板架本体的内表面设置有真空腔，所述真空腔的内顶部均匀开设有多个第一吸附孔，所述板架本体的外表面对称固定连接有接头。本实用新型中，通过限位块、第一吸附孔、第二吸附孔、真空腔、连接管、集气管、真空泵、出气管和吸附板的配合下，可以对掩膜板进行真空吸附，且通过隔板可以对真空腔分隔处理，从而通过两个连接管同时吸附，有助于保持真空腔内负压的均匀分布，从而提高吸附的均匀性和稳定性，通过对掩膜板的真空吸附，不仅拆装方便，而且无需直接接触掩膜板表面，避免了划痕和变形的风险，保护了掩膜板的完整性。
本实用新型一种光刻机上版架结构在权利要求书中公布了：1.一种光刻机上版架结构，其特征在于，包括：板架本体1，所述板架本体1的内表面设置有真空腔11，所述真空腔11的内顶部均匀开设有多个第一吸附孔13，所述板架本体1的外表面对称固定连接有接头5，两个所述接头5的一端均固定连接有连接管6，两个所述连接管6远离接头5的一端之间固定连接有集气管7，所述集气管7的外表面固定连接有出气管9，所述出气管9远离集气管7的一端固定连接有真空泵8，所述真空腔11的内表面对称固定连接有隔板12。
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