沈阳芯源微电子设备股份有限公司崔海超获国家专利权
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龙图腾网获悉沈阳芯源微电子设备股份有限公司申请的专利一种显影后废液收集CUP结构获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN222914035U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-27发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202421741795.7，技术领域涉及：G03F7/30；该实用新型一种显影后废液收集CUP结构是由崔海超;郭生华;李浩楠;王鹏程;隋天译设计研发完成，并于2024-07-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种显影后废液收集CUP结构在说明书摘要公布了：本实用新型属于半导体显影设备技术领域，具体地说是一种显影后废液收集CUP结构，包括CUP主体及环形外挡圈，CUP主体的内侧面中部向内侧凸设有环形内挡沿，环形内挡沿的内侧形成晶圆穿过口A，环形内挡沿的内侧面作为第一层挡液面，环形外挡圈安装于CUP主体上，环形外挡圈位于环形内挡沿的上方，环形外挡圈的内侧形成晶圆穿过口B，环形外挡圈的内侧面作为第二层挡液面。本实用新型的废液收集CUP结构通过形成有两层挡液面的结构设计，可充分挡住飞溅的废液，整体结构的高度相较现有的单层挡液面的废液收集CUP结构可以做得相对更低，有效避免废液从废液收集CUP结构飞出而溅到显影腔体，保证显影腔体的洁净度和湿度，结构简单，使用可靠。
本实用新型一种显影后废液收集CUP结构在权利要求书中公布了：1.一种显影后废液收集CUP结构，其特征在于：包括CUP主体1及环形外挡圈2，所述CUP主体1呈环形，所述CUP主体1的内侧面中部向内侧凸设有环形内挡沿101，所述环形内挡沿101的内侧形成晶圆穿过口A，所述环形内挡沿101的内侧面作为第一层挡液面，所述环形外挡圈2安装于所述CUP主体1上，所述环形外挡圈2位于所述环形内挡沿101的上方，所述环形外挡圈2的内侧形成晶圆穿过口B，所述环形外挡圈2的内侧面作为第二层挡液面。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人沈阳芯源微电子设备股份有限公司，其通讯地址为：110168 辽宁省沈阳市浑南区飞云路16号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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