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龙图腾网获悉武汉颐思谱科技有限公司申请的专利一种膜厚分析方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118960583B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410983884.0，技术领域涉及：G01B11/06；该发明授权一种膜厚分析方法是由郭春付;张成浩;李伟奇设计研发完成，并于2024-07-22向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种膜厚分析方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种膜厚分析方法，根据待测样品的测量光强，计算待测样品的测量反射率；将测量反射率到仿真光谱库中与理论反射率匹配；获取最小方差对应的理论反射率，将对应的每一层薄膜厚度值作为待测样品的膜厚初值；基于LM非线性回归算法对待测样品的膜厚初值进行迭代优化，求解待测样品的最优膜厚值；计算测量反射率与理论反射率之间的相关性；若相关性小于设定阈值，则对测量反射率去趋势处理，重新到仿真光谱库中进行匹配，得到膜厚值。本发明方法通过结合光谱仪测量数据和仿真计算，能够高效、准确地模拟多层薄膜系统的光学反射特性，并与实测数据进行匹配，提供精确的材料和结构信息，为现代光学和材料科学领域提供了重要的技术支持。

本发明授权一种膜厚分析方法在权利要求书中公布了：1.一种膜厚分析方法，其特征在于，包括：步骤S1，获取待测样品的测量光强，根据所述测量光强，计算待测样品的测量反射率；步骤S2，计算所述测量反射率与仿真光谱库中的每一理论反射率之间的方差，所述仿真光谱库中构建了多层薄膜系统的每一层薄膜厚度值与理论反射率的对应关系；步骤S3，获取最小方差对应的理论反射率，并将对应的每一层薄膜厚度值作为待测样品的膜厚初值；步骤S4，基于LM非线性回归算法对待测样品的膜厚初值进行迭代优化，求解待测样品的最优膜厚值；步骤S5，计算所述测量反射率与所述最优膜厚值对应的理论反射率之间的相关性；步骤S6，若所述相关性小于设定阈值，则对所述测量反射率去趋势处理，获取去趋势处理后的测量光谱，返回步骤S2；若所述相关性大于等于设定阈值，则结束流程；所述步骤S1，获取待测样品的测量光强，根据所述测量光强，计算待测样品的测量反射率，包括：通过光谱仪采集待测样品在N个测量波长点的测量光强，根据每一个测量波长点的测量光强，计算对应的测量反射率： 对所述测量反射率进行归一化： 其中，Isample,i表示待测样品在第i个测量波长点的测量光强，Idark,i表示在没有光照射待测样品时，在第i个测量波长点测得的测量光强，Rstd,i表示已知标准样品在第i个测量波长点的反射率，表示所有测量波长点中的最小测量反射率，表示所有测量波长点中的最大测量反射率，为归一化后的第i个测量波长点测量反射率。

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