上海塞普机电工程技术有限公司戴彤宇获国家专利权
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龙图腾网获悉上海塞普机电工程技术有限公司申请的专利粒料质量检测设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN222913520U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-27发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202421619474.X，技术领域涉及：G01N21/95；该实用新型粒料质量检测设备是由戴彤宇;谭文超设计研发完成，并于2024-07-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本粒料质量检测设备在说明书摘要公布了：本申请公开一种粒料质量检测设备，所述粒料质量检测设备包括：机座，包括用于放置待检粒料的透光台面以及位于透光台面下侧的容纳空间；光源组件，设置在容纳空间中，用于提供第一强度光线和第二强度光线；光栅组件，与透光台面相平行地设置在容纳空间中，并位于光源组件与透光台面之间，设置有对应待检粒料的粒径的用于分割光源组件所提供的光线的明暗条纹；反光罩，设置在摄像装置与透光台面之间，具有对应摄像装置的视窗，用于反射被分割后的透射光线从而形成多角度反射光线以利用多角度反射光线及被分割后的透射光线构建消除伪目标的图像采集环境；以及摄像装置，悬设于透光台面的上侧用以摄取待检粒料的检测图像。
本实用新型粒料质量检测设备在权利要求书中公布了：1.一种粒料质量检测设备，其特征在于，包括：机座，包括用于放置待检粒料的透光台面以及位于所述透光台面下侧的容纳空间；光源组件，设置在所述容纳空间中，用于提供第一强度光线和第二强度光线，其中，所述第一强度光线的分布区域与所述待检粒料的分布区域对应且所述第一强度光线的强度小于第二强度光线的强度；光栅组件，与所述透光台面相平行地设置在所述容纳空间中，并位于所述光源组件与透光台面之间，设置有对应所述待检粒料的粒径的用于分割所述光源组件所提供的光线的明暗条纹；反光罩，设置在所述透光台面的上侧，用于反射被分割后的透射光线从而形成多角度反射光线以利用所述多角度反射光线及被分割后的透射光线构建消除伪目标的图像采集环境；以及摄像装置，悬设于所述透光台面的上侧用以在所述待检粒料处于所述消除伪目标的图像采集环境的条件下摄取所述待检粒料的检测图像，以凸显所述检测图像中待检粒料的真目标的图像特征。
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