上海微电子装备(集团)股份有限公司李煜芝获国家专利权
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龙图腾网获悉上海微电子装备(集团)股份有限公司申请的专利曝光设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118068660B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410384564.3，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权曝光设备是由李煜芝;褚占占;蓝科;周畅设计研发完成，并于2024-03-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本曝光设备在说明书摘要公布了：本发明提供一种曝光设备，包括：工件台，掩模台，光学单元，包括光源和镜组；驱动单元，用于驱动物镜和或工件台移动；测量单元，用于测量基板和或掩模的面形数据；以及控制单元，被配置为，在扫描曝光前，形成工件台运动轨迹和或物镜运动轨迹，并对物镜运动轨迹进行平滑处理，形成平滑后的物镜运动轨迹；在扫描曝光时，基于工件台运动轨迹和或平滑后的物镜运动轨迹，向驱动单元发送运动指令。如此配置，通过优化物镜运动轨迹，使得物镜运动时间与工件台运动时间或曝光档位切换时间相匹配，曝光时间不在受限于物镜运动时间，有效提升了曝光设备的产率，也避免因曝光档位调整造成的曝光场的过曝或欠曝现象，提升了产品的良率。
本发明授权曝光设备在权利要求书中公布了：1.一种曝光设备，其特征在于，包括：工件台，用于承载基板；掩模台，用于承载掩模；光学单元，包括光源和镜组，所述光源设置于所述掩模台远离所述工件台的一侧；所述镜组由多个物镜组成，设置于所述掩模台和所述工件台之间，用于对所述基板和或所述掩模的曝光进行补偿；驱动单元，用于驱动所述物镜和或所述工件台移动；测量单元，用于测量所述基板和或所述掩模的面形数据；控制单元，与所述测量单元和所述驱动单元通信连接；所述控制单元被配置为，在扫描曝光前，基于所述基板和或所述掩模的面形数据，生成工件台调整量和物镜调整量，形成工件台运动轨迹和或物镜运动轨迹，并对所述物镜运动轨迹进行平滑处理，形成平滑后的物镜运动轨迹，以使得物镜运动时间与工件台运动时间或曝光档位切换时间相匹配；在扫描曝光时，基于所述工件台运动轨迹和或平滑后的物镜运动轨迹，向所述驱动单元发送运动指令。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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