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龙图腾网获悉苏州悉芯射频微电子有限公司申请的专利一种欠冲电压生成电路获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119165914B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411658590.7，技术领域涉及：G05F1/56；该发明授权一种欠冲电压生成电路是由林首全;项勇;戈泽宇;陈浪;刘辉;唐玖虎;汪智斌设计研发完成，并于2024-11-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种欠冲电压生成电路在说明书摘要公布了：本发明属于射频电路领域，涉及一种欠冲电压生成电路，采用电阻R1和电容C1用于稳定电路，电流源Ib提供运放偏置电流。MOS晶体管P5作为电流‑电压转换管，漏极接四个串联的电压调控电阻，栅极接钳位运算放大器的输出端。所述钳位运算放大器将节点电压VX与参考电压VREF相关联，并通过反馈环路动态调控MOS晶体管P5的栅极电压。MOS晶体管P6和MOS晶体管Q6、MOS晶体管Q7组成电流镜像电路，用于复制MOS晶体管P5的栅极电压，进而产生基准电流。基准电流注入到所述RC低通电路中，最终产生了欠冲电压。解决功率放大器等电路存在难以测试的过冲波动问题。

本发明授权一种欠冲电压生成电路在权利要求书中公布了：1.一种欠冲电压生成电路，其特征在于，所述欠冲电压生成电路包括：电阻RT1、电阻RT2、电阻RT3、电阻RT4依次串联后与电容C2的一端连接组成RC低通电路，电容C2的另一端接地，电阻RT4与电容C2之间为电压输出端VOUT，电阻RT1的另一端与参考电压VREF相连；MOS晶体管P7、MOS晶体管P8、MOS晶体管P4和MOS晶体管Q8、MOS晶体管Q9、MOS晶体管Q10以及MOS晶体管Q11组成使能控制电路，其中MOS晶体管Q10的栅极与MOS晶体管P7的栅极连接，并与控制信号EN连接，MOS晶体管Q10的漏极与MOS晶体管P7的漏极连接，并连接至MOS晶体管P4的栅极，MOS晶体管Q10的源极接地，MOS晶体管P7和MOS晶体管P4的源极接电源VDD，MOS晶体管P4的漏极接MOS晶体管P5的栅极，用于控制MOS晶体管P5的通断；MOS晶体管P4的漏极接MOS晶体管P6的栅极，MOS晶体管P6的源极接电源VDD，MOS晶体管P6的漏极接MOS晶体管Q7的漏极和栅极，MOS晶体管Q7的栅极连接MOS晶体管Q6的栅极，MOS晶体管Q6的源极接地，MOS晶体管Q6的漏极接参考电压VREF，MOS晶体管Q7的源极接地；MOS晶体管Q11的漏极与MOS晶体管P8的漏极连接，并连接至MOS晶体管Q8和MOS晶体管Q9的栅极，用于控制MOS晶体管Q8和MOS晶体管Q9的通断，MOS晶体管Q11的源极接地，MOS晶体管P8的源极接电源VDD；MOS晶体管P8和MOS晶体管Q11的栅极连接后与MOS晶体管P4的栅极连接；MOS晶体管P1、MOS晶体管P2、MOS晶体管P3、MOS晶体管Q3、MOS晶体管Q4、MOS晶体管Q5与电流源Ib、电阻R1和电容C1组成钳位运算放大器；其中，MOS晶体管P1的栅极连接参考电压VREF，MOS晶体管P1的源极连接电流源Ib，电流源Ib与电源VDD连接；MOS晶体管P2的栅极连接MOS晶体管P5的漏极；MOS晶体管P2的源极连接电流源Ib；MOS晶体管P1的漏极与MOS晶体管Q4的漏极和栅极连接，同时与MOS晶体管Q9的漏极连接；MOS晶体管P2的漏极与MOS晶体管Q5的漏极连接，MOS晶体管Q5的栅极与MOS晶体管Q4的栅极连接，MOS晶体管Q5的源极以及MOS晶体管Q9的源极、MOS晶体管Q4的源极接地；MOS晶体管Q8的栅极与MOS晶体管Q9栅极连接，MOS晶体管Q8的漏极与电阻R1的一端以及MOS晶体管Q5的漏极连接，电阻R1的另一端连接电容C1的一端，电容C1的另一端连接MOS晶体管Q3的漏极，MOS晶体管Q3的栅极连接MOS晶体管Q8的漏极，MOS晶体管Q3的源极接地，MOS晶体管Q3的漏极连接MOS晶体管P3的漏极，MOS晶体管Q3的栅极接MOS晶体管Q5的漏极；MOS晶体管P3的栅极由外部电路提供的偏置电压Vb供电，MOS晶体管P3的源极连接电源VDD，MOS晶体管P3的漏极连接MOS晶体管P5的栅极，MOS晶体管P5的源极接电源VDD；MOS晶体管P5的漏极接四个串联的电压调控电阻RV1、电压调控电阻RV2、电压调控电阻R3以及电压调控电阻RV4，电压调控电阻RV4的另一端接地，MOS晶体管P5的漏极为节点电压VX。

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