芯恩(青岛)集成电路有限公司刘瑞获国家专利权
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龙图腾网获悉芯恩(青岛)集成电路有限公司申请的专利用于控制薄膜沉积分布的装置及化学气相沉积设备获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN222923239U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-30发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202422079849.4,技术领域涉及:C23C16/52;该实用新型用于控制薄膜沉积分布的装置及化学气相沉积设备是由刘瑞;孔贺廷;徐海瑞;李兆倩设计研发完成,并于2024-08-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于控制薄膜沉积分布的装置及化学气相沉积设备在说明书摘要公布了:本实用新型提供了一种用于控制薄膜沉积分布的装置及化学气相沉积设备,装置设于化学气相沉积设备上,化学气相沉积设备包括上腔壳及具有通孔的喷淋板,上腔壳和喷淋板围合形成有上腔室,装置包括:扩散器,可竖向移动调节地设于上腔室内且位于喷淋板的上方;驱动机构,与扩散器驱动连接且用于驱动扩散器进行竖向移动调节,进而调节扩散器与喷淋板的间距,以调节气流分布。本实用新型通过驱动机构移动调节扩散器,可调控薄膜沉积的分布情况,而且不会影响薄膜的厚度和折射率。
本实用新型用于控制薄膜沉积分布的装置及化学气相沉积设备在权利要求书中公布了:1.一种用于控制薄膜沉积分布的装置,其特征在于,所述装置设于化学气相沉积设备上,所述化学气相沉积设备包括上腔壳及具有通孔的喷淋板,所述上腔壳和所述喷淋板围合形成有上腔室,所述装置包括:扩散器,可竖向移动调节地设于所述上腔室内且位于所述喷淋板的上方;驱动机构,与所述扩散器驱动连接且用于驱动所述扩散器进行竖向移动调节,进而调节所述扩散器与所述喷淋板的间距,以调节气流分布。
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