甬矽半导体(宁波)有限公司何正鸿获国家专利权
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龙图腾网获悉甬矽半导体(宁波)有限公司申请的专利研磨盘及化学机械抛光设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN222920291U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-30发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202421872399.8，技术领域涉及：B24B37/11；该实用新型研磨盘及化学机械抛光设备是由何正鸿;李奎奎;林金涛;王森民设计研发完成，并于2024-08-05向国家知识产权局提交的专利申请。
本研磨盘及化学机械抛光设备在说明书摘要公布了：本实用新型公开一种研磨盘及化学机械抛光设备，涉及抛光技术领域。该研磨盘包括研磨盘本体，研磨盘本体上设置有研磨部和排污部，研磨部用于与晶圆贴合接触以对晶圆进行研磨，排污部远离研磨盘本体的一侧与研磨盘本体之间的距离小于研磨部远离研磨盘本体的一侧与研磨盘本体之间的距离，排污部用于将研磨盘本体与晶圆之间产生的颗粒物导向研磨盘本体的边缘并经由研磨盘本体的边缘排出。该研磨盘及化学机械抛光设备能够解决现有技术中研磨处理时在研磨盘和晶圆表面之间产生的颗粒物容易导致晶圆表面存在刮痕甚至晶圆发生隐裂的问题，从而提高晶圆的良率。
本实用新型研磨盘及化学机械抛光设备在权利要求书中公布了：1.一种研磨盘，其特征在于，包括研磨盘本体，所述研磨盘本体上设置有研磨部和排污部，所述研磨部用于与晶圆贴合接触以对所述晶圆进行研磨，所述排污部远离所述研磨盘本体的一侧与所述研磨盘本体之间的距离小于所述研磨部远离所述研磨盘本体的一侧与所述研磨盘本体之间的距离，所述排污部用于将所述研磨盘本体与所述晶圆之间产生的颗粒物导向所述研磨盘本体的边缘并经由所述研磨盘本体的边缘排出。
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