甬矽电子(宁波)股份有限公司何正鸿获国家专利权
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龙图腾网获悉甬矽电子(宁波)股份有限公司申请的专利吸嘴结构和芯片吸附设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN222927463U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-30发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202421882693.7，技术领域涉及：H01L21/683；该实用新型吸嘴结构和芯片吸附设备是由何正鸿;林汉斌;张成;张聪设计研发完成，并于2024-08-05向国家知识产权局提交的专利申请。
本吸嘴结构和芯片吸附设备在说明书摘要公布了：本实用新型提供的一种吸嘴结构和芯片吸附设备，涉及半导体技术领域，该吸嘴结构包括吸嘴底座和吸嘴头，吸嘴头可拆卸地安装在吸嘴底座上，吸嘴底座具有外接气槽，吸嘴头内设置有气腔槽，气腔槽连通至外接气槽，且吸嘴头具有相对的吸附端面和安装端面，安装端面对应贴合于吸嘴底座，吸附端面的中心设置有连通气槽，且连通气槽和边缘气槽均与气腔槽连通。相较于现有技术，本实用新型通过增设气腔槽，能够作为气体储存空间，从而能够提升边缘气槽和连通气槽的吸附气压，进而提升吸附力，保证吸附效果。同时，采用边缘气槽和连通气槽的双气槽结构，能够提升边缘吸附力，在保证吸附效果的同时，提升芯片的贴装和分离效率。
本实用新型吸嘴结构和芯片吸附设备在权利要求书中公布了：1.一种吸嘴结构，其特征在于，包括吸嘴底座和吸嘴头，所述吸嘴头可拆卸地安装在所述吸嘴底座上，所述吸嘴底座具有外接气槽，所述吸嘴头内设置有气腔槽，所述气腔槽连通至所述外接气槽，且所述吸嘴头具有相对的吸附端面和安装端面，所述安装端面对应贴合于所述吸嘴底座，所述吸附端面的中心设置有连通气槽，用于对应吸附芯片的中部，所述吸附端面的边缘设置有边缘气槽，用于对应吸附芯片的边缘，且所述连通气槽和所述边缘气槽均与所述气腔槽连通。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人甬矽电子(宁波)股份有限公司，其通讯地址为：315400 浙江省宁波市余姚市中意宁波生态园兴舜路22号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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