上海量子科学研究中心;合肥国家实验室宗华获国家专利权
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龙图腾网获悉上海量子科学研究中心;合肥国家实验室申请的专利一种用于实时测量校准薄膜厚度的磁控溅射设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN222923227U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-30发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202421730141.4，技术领域涉及：C23C14/54；该实用新型一种用于实时测量校准薄膜厚度的磁控溅射设备是由宗华;宿非凡;邓辉;严凯;荣皓;张海斌;秦文斌;燕军祥;孙潇莹;郭旭续设计研发完成，并于2024-07-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种用于实时测量校准薄膜厚度的磁控溅射设备在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种用于实时测量校准薄膜厚度的磁控溅射设备，包括：机械臂、推拉式挡板、样品台、靶材挡板、靶材以及白光干涉仪镜头，所述机械臂的伸展和折叠端安装有白光干涉仪镜头，且推拉式挡板与样品台进行连接。本实用新型通过增加白光干涉装置，避免设备工艺腔室破真空取样，通过样品台上推拉式挡板，可在样品溅射过程中制造台阶，节省了样品光刻显影制造样品台阶的工序，以及破真空的操作，白光干涉仪采用无接触式测量模式，可通过机械臂改变白光干涉仪镜头位置，找到测试的台阶，避免直接接触损坏样品本身，且样品一直处于真空状态，保证样品免受污染，明显提高镀膜工艺研发与工艺复测的效率。
本实用新型一种用于实时测量校准薄膜厚度的磁控溅射设备在权利要求书中公布了：1.一种用于实时测量校准薄膜厚度的磁控溅射设备，包括：机械臂1、推拉式挡板2、样品台3、靶材挡板4、靶材5以及白光干涉仪镜头6，其特征在于，所述机械臂1的伸展和折叠端安装有白光干涉仪镜头6，且推拉式挡板2与样品台3进行连接。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人上海量子科学研究中心;合肥国家实验室，其通讯地址为：201315 上海市浦东新区秀浦路99号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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