宝虹科技股份有限公司吕理宏获国家专利权
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龙图腾网获悉宝虹科技股份有限公司申请的专利原子层沉积制程设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN222935503U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-03发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202421917811.3，技术领域涉及：C23C16/455；该实用新型原子层沉积制程设备是由吕理宏;蔡龙泉;游克强;余兴政设计研发完成，并于2024-08-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本原子层沉积制程设备在说明书摘要公布了：一种原子层沉积制程设备，包括一反应腔、一原子层沉积模块以及一移动单元。该反应腔包括一上部分、一下部分及一由该上部分与该下部分构成的沉积室。该原子层沉积模块包括一上喷淋座以及一下喷淋座，该上喷淋座设置于该上部分而位于一上方空间，该下喷淋座设置于该下部分而位于一下方空间，且相隔于该上喷淋座，该上喷淋座与该下喷淋座之间夹持有一被加工件。该移动单元连接该原子层沉积模块，该移动单元带动该原子层沉积模块翻转而使该原子层沉积模块在一第一沉积模式及一第二沉积模式之间切换。
本实用新型原子层沉积制程设备在权利要求书中公布了：1.一种原子层沉积制程设备，其特征在于，包括：一反应腔，包括一上部分、一下部分及一由该上部分与该下部分构成的沉积室；一原子层沉积模块，包括：一上喷淋座，设置于该上部分而位于一上方空间；以及一下喷淋座，设置于该下部分而位于一下方空间，且相隔于该上喷淋座，该上喷淋座与该下喷淋座之间夹持有一被加工件；以及一移动单元，连接该原子层沉积模块及该反应腔，该移动单元带动该原子层沉积模块及该反应腔翻转而使该原子层沉积模块在一第一沉积模式及一第二沉积模式之间切换；其中，当该原子层沉积模块在该第一沉积模式时，该上喷淋座位于该上方空间而对该被加工件的一上表面进行沉积，当该原子层沉积模块切换至该第二沉积模式，该移动单元带动该原子层沉积模块及该被加工件翻转而使该下喷淋座移动至该上方空间，而对该被加工件的一下表面进行沉积。
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