西安工业大学王红军获国家专利权
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龙图腾网获悉西安工业大学申请的专利一种测量光栅缺陷的装置及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118706751B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410987359.6，技术领域涉及：G01N21/01；该发明授权一种测量光栅缺陷的装置及方法是由王红军;高盈;田爱玲;刘丙才;朱学亮;岳鑫设计研发完成，并于2024-07-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种测量光栅缺陷的装置及方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种测量光栅缺陷的方法及装置，涉及光学测量及成像技术领域。用于解决现有的光栅缺陷检测无法测量三维尺寸问题。包括：基于测量光栅缺陷装置得到包括待测光栅三维信息的聚焦光强图和过焦光强图；根据强度图像的有限差分得到所述聚焦光强图和所述过焦光强图的轴向强度导数；根据傅里叶变换性质和所述轴向强度导数得到待测光栅的相位分布；基于表面缺陷对相位的调制特性，将所述待测光栅的相位分布转换为待测光栅的表面缺陷深度分布信息。
本发明授权一种测量光栅缺陷的装置及方法在权利要求书中公布了：1.一种测量光栅缺陷的装置，其特征在于，包括：第一偏振片，第二偏振片，第一分光棱镜，第二分光棱镜，第三分光棱镜，第一CCD和第二CCD；第一偏振片，其设置在光源和第一分光棱镜之间；第二偏振片，其设置在所述第一分光棱镜的折射光出光侧，所述第二偏振片与所述第一偏振片正交设置；第二分光棱镜，其设置在待测光栅上方，用于对来自待测光栅的第一反射光进行透射和反射，形成第一透射光和第二反射光；第三分光棱镜，其设置在第二分光棱镜的透射光出光侧，且与所述第二分光棱镜之间设置4f系统，第一透射光透过所述4f系统和第三分光棱镜，形成第二透射光和第三反射光；所述第二透射光进入位于所述4f系统包括的第二透镜的焦点处的第一CCD，所述第三反射光进入位于所述4f系统包括的第二透镜的焦点后的第二CCD；其中，所述4f系统包括第一透镜和第二透镜；还包括光强探测器；所述第二反射光被所述第一分光棱镜反射形成第四反射光，所述第四反射光透过所述第二偏振片和会聚透镜进入所述光强探测器。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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