恭喜上海交通大学史志文获国家专利权
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龙图腾网恭喜上海交通大学申请的专利嵌在二维材料层间的石墨烯纳米带及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116588919B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310558549.1，技术领域涉及：C01B32/186；该发明授权嵌在二维材料层间的石墨烯纳米带及其制备方法是由史志文;吕博赛;陈佳俊;娄硕;沈沛约设计研发完成，并于2023-05-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本嵌在二维材料层间的石墨烯纳米带及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种嵌在二维材料层间的石墨烯纳米带及其制备方法，该石墨烯纳米带结构包括：具有原子级平整度的衬底，由至少两个原子层依次平行堆叠形成，且相邻两原子层之间通过范德华力结合；至少一个纵切面，自衬底表面沿衬底厚度方向延伸一个或多个原子层厚度的衬底形成；至少一个石墨烯纳米带，冲破纵切面处裸露的任意相邻两原子层的范德华力嵌入该两层原子层之间，被衬底材料封装。形成的石墨烯纳米带嵌于具有原子级平整度的衬底中，与外界环境隔绝，使得石墨烯纳米带具有接近本征纳米带的物性，规整的边缘结构；另外该制备方法操作简单，成本较低，且可以大规模生产，具有较佳的产业化价值。
本发明授权嵌在二维材料层间的石墨烯纳米带及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种嵌在二维材料层间的石墨烯纳米带，其特征在于，所述嵌在二维材料层间的石墨烯纳米带包括：具有原子级平整度的衬底，所述衬底由至少两个原子层依次平行堆叠形成，且相邻两所述原子层之间通过范德华力结合；至少一个纵切面，自所述衬底表面沿所述衬底厚度方向延伸一个或多个所述原子层厚度的所述衬底形成；至少一个石墨烯纳米带，冲破所述纵切面裸露的任意相邻两所述原子层的范德华力嵌入该两层所述原子层之间，被所述衬底封装。
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