买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！

龙图腾网恭喜株式会社国际电气申请的专利衬底处理装置及半导体器件的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113451099B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110320162.3，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权衬底处理装置及半导体器件的制造方法是由上村大义;谷山智志;白子贤治;嶋田宽哲;堀井明;中田高行;山岛规裕设计研发完成，并于2021-03-25向国家知识产权局提交的专利申请。

本衬底处理装置及半导体器件的制造方法在说明书摘要公布了：本发明涉及衬底处理装置及半导体器件的制造方法，提供能够减少占用空间并提高排气效率的构成。包括：第1处理组件，其具有衬底处理用的第1处理容器和在正面侧设置的衬底的搬入口；第1设备系统，其包含向所述第1处理容器内供给处理气体的第1供给系统，所述第1设备系统与所述第1处理组件的背面接近配置；以及第1真空排气装置，其配置在所述第1处理组件的后方，对所述第1处理容器内进行排气，所述第1真空排气装置的外侧的侧面以与所述第1设备系统的外侧的侧面相比不向外侧突出的方式构成。

本发明授权衬底处理装置及半导体器件的制造方法在权利要求书中公布了：1.衬底处理装置，其包括：第1处理组件，其具有衬底处理用的第1处理容器和在正面侧设有衬底的搬入口的搬送室；第1设备系统，其包含向所述第1处理容器内供给处理气体的第1供给系统，所述第1设备系统与所述第1处理组件的背面接近配置；第1真空排气装置，其配置在所述第1处理组件的后方，对所述第1处理容器内进行排气，所述第1真空排气装置具有第1增压泵和承载所述第1增压泵的第1架台，所述第1增压泵在与设置在所述第1处理容器的背面侧的第1排气端口大致相对的位置配置有进气口；以及第1排气管，其使所述第1排气端口与所述第1增压泵的进气口之间大致直线地流体连通，所述第1真空排气装置的外侧的侧面以与所述第1设备系统的外侧的侧面相比不向外侧突出的方式构成，所述第1增压泵在所述进气口的下方具有与辅助排气装置连接的排气口，所述进气口以直接面向所述第1增压泵的转子室的方式开口，所述第1排气管的一端经由可挠部连接于所述第1增压泵的进气口。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人株式会社国际电气，其通讯地址为：日本东京都；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。