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龙图腾网恭喜东京毅力科创株式会社申请的专利基板处理装置及其控制方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112038258B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010470221.0，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权基板处理装置及其控制方法是由枇杷聪;冈村聪;五师源太郎设计研发完成，并于2020-05-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本基板处理装置及其控制方法在说明书摘要公布了：本发明提供能够提高使用了超临界状态的处理流体的干燥处理后的晶圆的清洁度的基板处理装置及其控制方法。基板处理装置具有：处理容器，具有能够收纳被液体湿润了表面的状态的基板的处理空间；处理流体供给部，向处理空间中朝向液体供给超临界状态的处理流体；第1排气管线，与第1排气源连接，利用第1排气压使处理空间排气；第2排气管线，与有别于第1排气源的第2排气源连接，在第1排气源和处理空间之间与第1排气管线连接，利用第2排气压经由第1排气管线使处理空间排气；以及控制部，控制第2排气压。超临界状态的处理流体与液体接触而干燥基板。控制部在处理流体供给部停止向处理空间供给处理流体的期间使第2排气压高于第1排气压。

本发明授权基板处理装置及其控制方法在权利要求书中公布了：1.一种基板处理装置，其中，该基板处理装置具有：处理容器，其具有能够收纳被液体湿润了表面的状态的基板的处理空间；处理流体供给部，其向所述处理空间中朝向所述液体供给超临界状态的处理流体；第1排气管线，其与第1排气源连接，利用第1排气压使所述处理空间排气；第2排气管线，其与有别于所述第1排气源的第2排气源连接，在所述第1排气源和所述处理空间之间与所述第1排气管线连接，并利用第2排气压经由所述第1排气管线使所述处理空间排气；以及控制部，其控制所述第2排气压，所述超临界状态的处理流体与所述液体接触而对所述基板进行干燥，所述控制部在所述处理流体供给部开始供给所述处理流体之前的所述基板未被搬入所述处理容器的期间和或所述处理流体供给部停止供给所述处理流体之后的所述基板被搬出了所述处理容器的期间，使所述第2排气压高于所述第1排气压。

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