南京国盛电子有限公司;南京盛鑫半导体材料有限公司李博源获国家专利权
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龙图腾网获悉南京国盛电子有限公司;南京盛鑫半导体材料有限公司申请的专利一种用于改善单片炉外延厚度均匀性的匀流板获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN222948516U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-06发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202422029651.5,技术领域涉及:C30B25/14;该实用新型一种用于改善单片炉外延厚度均匀性的匀流板是由李博源;马梦杰;尤晓杰;王银海设计研发完成,并于2024-08-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种用于改善单片炉外延厚度均匀性的匀流板在说明书摘要公布了:本实用新型公开了一种用于改善单片炉外延厚度均匀性的匀流板,包括匀流板主体、设置于匀流板主体上的若干第一进气孔及若干第二进气孔,所述若干第一进气孔分为两组,且该两组第一进气孔沿匀流板主体的中轴对称分布,所述若干第二进气孔分为两组,且该两组第二进气孔沿匀流板主体的中轴对称分布,且两组第二进气孔位于两组第一进气孔之间;每组第一进气孔中的相邻两第一进气孔间隔距离为l1,每组第二进气孔中的相邻两第二进气孔间隔距离为l2,且l2<l1。本实用新型通过设计优化匀流板的通孔分布,实现对硅片厚度R2点的有效调控,解决了外延层厚度沿硅片径向分布呈现的“W”形问题,提升外延片厚度均匀性,为高品质外延片加工提供了有效解决途径。
本实用新型一种用于改善单片炉外延厚度均匀性的匀流板在权利要求书中公布了:1.一种用于改善单片炉外延厚度均匀性的匀流板,其特征在于,包括匀流板主体1、设置于匀流板主体1上的若干第一进气孔及若干第二进气孔,所述若干第一进气孔分为两组,且该两组第一进气孔沿匀流板主体1的中轴对称分布,所述若干第二进气孔分为两组,且该两组第二进气孔沿匀流板主体1的中轴对称分布,且两组第二进气孔位于两组第一进气孔之间;每组第一进气孔中的相邻两第一进气孔间隔距离为l1,每组第二进气孔中的相邻两第二进气孔间隔距离为l2,且l2<l1。
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