中微半导体设备(上海)股份有限公司朱生华获国家专利权
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龙图腾网获悉中微半导体设备(上海)股份有限公司申请的专利气体喷淋头及等离子体处理装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN222953022U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-06发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202421937006.7，技术领域涉及：H01J37/32；该实用新型气体喷淋头及等离子体处理装置是由朱生华;杜若昕;丛海设计研发完成，并于2024-08-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本气体喷淋头及等离子体处理装置在说明书摘要公布了：本实用新型公开一种气体喷淋头及等离子体处理装置。所述气体喷淋头包括：喷淋头主体，其包括相对的正面和背面；若干气孔，所述气孔贯通所述喷淋头主体的正面和背面，每个所述气孔包括：相互连通的第一气孔段和第二气孔段，第一气孔段包括第一端和第二端，第一端用于输出工艺气体，第二端与第二气孔段连接，第一气孔段的第二端的直径小于第二气孔段的直径；以及，耐腐蚀涂层，其覆盖于所述第一气孔段的内壁表面；其中，第一气孔段的长度和其直径的比例为2：1～5：1。本实用新型气孔内耐腐蚀涂层致密度高，能有效降低颗粒污染物的产生。
本实用新型气体喷淋头及等离子体处理装置在权利要求书中公布了：1.一种气体喷淋头，其特征在于，包括：喷淋头主体，其包括相对的正面和背面，所述正面用于与等离子体环境接触；若干气孔，所述气孔贯通所述喷淋头主体的正面和背面，每个所述气孔包括：相互连通的第一气孔段和第二气孔段，所述第一气孔段包括第一端和第二端，所述第一端用于输出工艺气体，所述工艺气体用于形成所述等离子体环境，所述第二端与所述第二气孔段连接，所述第一气孔段的第二端的直径小于第二气孔段的直径；以及，耐腐蚀涂层，其覆盖于所述第一气孔段的内壁表面；其中，所述第一气孔段的长度和其直径的比例为2：1～5：1。
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