上海积塔半导体有限公司何勇获国家专利权
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龙图腾网获悉上海积塔半导体有限公司申请的专利具有自动清洗结构的研磨装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN222945232U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-06发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202421869277.3，技术领域涉及：B24B37/27；该实用新型具有自动清洗结构的研磨装置是由何勇;闵炼锋;解海江;王伟设计研发完成，并于2024-08-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本具有自动清洗结构的研磨装置在说明书摘要公布了：本实用新型涉及一种具有自动清洗结构的研磨装置。所述具有自动清洗结构的研磨装置包括：卡盘，包括用于承载晶圆的承载面；清洁组件，包括相互独立的清洁毛刷和清洁油石，且所述清洁毛刷和所述清洁油石均位于所述卡盘上方；控制组件，连接所述清洁组件，所述控制组件能够控制所述清洁毛刷与所述承载面接触并刷洗所述承载面，且所述控制组件能够控制所述清洁油石与所述承载面接触并打磨所述承载面。本实用新型实现了对卡盘的承载面的自动化清洗，减少了卡盘清洁的人力成本，并提高了卡盘清洁的效率，改善了卡盘的清洁效果。
本实用新型具有自动清洗结构的研磨装置在权利要求书中公布了：1.一种具有自动清洗结构的研磨装置，其特征在于，包括：卡盘，包括用于承载晶圆的承载面；清洁组件，包括相互独立的清洁毛刷和清洁油石，且所述清洁毛刷和所述清洁油石均位于所述卡盘上方；控制组件，连接所述清洁组件，所述控制组件能够控制所述清洁毛刷与所述承载面接触并刷洗所述承载面，且所述控制组件能够控制所述清洁油石与所述承载面接触并打磨所述承载面。
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