拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司苏欣获国家专利权
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龙图腾网获悉拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司申请的专利抽气环及半导体加工设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN222948464U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-06发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202421535808.5，技术领域涉及：C23C16/44；该实用新型抽气环及半导体加工设备是由苏欣设计研发完成，并于2024-07-01向国家知识产权局提交的专利申请。
本抽气环及半导体加工设备在说明书摘要公布了：本实用新型提供了一种抽气环及一种半导体加工设备。所述抽气环包括上环、下环及边环。所述上环设于半导体加工设备的工艺腔室内部，并环绕晶圆托盘。所述下环设于所述上环之下，并与所述上环保持一抽气间隙。所述边环具有一环形凹槽。所述环形凹槽环绕所述抽气间隙。所述环形凹槽的上壁环绕并密封连接所述上环的外边缘。所述环形凹槽的下壁环绕并密封连接所述下环的外边缘。所述环形凹槽上设有至少一个抽气口，并经由所述至少一个抽气口连接外部的抽气模块。本实用新型可以用于提升工艺腔室对不同工艺的兼容性，从而取消在不同工艺腔室间传片来进行不同工艺的需求，以提升半导体器件的加工效率，并取消开腔更换抽气环的需求，以避免引入外部污染。
本实用新型抽气环及半导体加工设备在权利要求书中公布了：1.一种抽气环，其特征在于，包括：上环，设于半导体加工设备的工艺腔室内部，并环绕晶圆托盘；下环，设于所述上环之下，并与所述上环保持一抽气间隙；以及边环，具有一环形凹槽，其中，所述环形凹槽环绕所述抽气间隙，所述环形凹槽的上壁环绕并密封连接所述上环的外边缘，所述环形凹槽的下壁环绕并密封连接所述下环的外边缘，所述环形凹槽上设有至少一个抽气口，并经由所述至少一个抽气口连接外部的抽气模块。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司，其通讯地址为：110171 辽宁省沈阳市浑南区水家900号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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