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恭喜株式会社理光纸英利获国家专利权

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龙图腾网恭喜株式会社理光申请的专利电子装置及其生产方法、成像方法和成像设备获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114341745B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-17发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202080062990.5,技术领域涉及:G03G5/04;该发明授权电子装置及其生产方法、成像方法和成像设备是由纸英利;浅野友晴;石井雅之;井上龙太设计研发完成,并于2020-07-21向国家知识产权局提交的专利申请。

电子装置及其生产方法、成像方法和成像设备在说明书摘要公布了:提供了电子装置,其包括:载体;包括电荷传输材料的电荷传输层或包括增感染料的增感染料电极层,其中电荷传输层或增感染料电极层被设置在载体上或上方;和金属氧化物层,所述金属氧化物层被设置在电荷传输层或增感染料电极层上或上方,其中金属氧化物层包括p型半导体金属氧化物和二氧化硅或金属氧化物颗粒,并且其中金属氧化物层中包括的二氧化硅或金属氧化物颗粒量为相对于金属氧化物层0.5质量%以上但1.5质量%以下。

本发明授权电子装置及其生产方法、成像方法和成像设备在权利要求书中公布了:1.电子装置,包括: 载体; 包括电荷传输材料的电荷传输层或包括增感染料的增感染料电极层,其中所述电荷传输层或所述增感染料电极层被设置在所述载体上或上方;和 金属氧化物层,所述金属氧化物层被设置在所述电荷传输层或所述增感染料电极层上或上方, 其中所述金属氧化物层包括p型半导体金属氧化物颗粒,并且其中所述金属氧化物层进一步包括二氧化硅或金属氧化物颗粒, 其中所述金属氧化物层中包括的所述二氧化硅或金属氧化物颗粒的量为相对于所述金属氧化物层0.5质量%以上但1.5质量%以下, 其中所述p型半导体金属氧化物是铜铝氧化物,并且 其中所述金属氧化物颗粒中的金属氧化物是氧化铝或氧化锌。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人株式会社理光,其通讯地址为:日本东京;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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