甬矽半导体(宁波)有限公司何正鸿获国家专利权
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龙图腾网获悉甬矽半导体(宁波)有限公司申请的专利沉积抛光装置和清洁设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN222999226U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-20发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202421927149.X，技术领域涉及：B08B1/32；该实用新型沉积抛光装置和清洁设备是由何正鸿;庞宏林;高司政;高源设计研发完成，并于2024-08-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本沉积抛光装置和清洁设备在说明书摘要公布了：本申请提供的一种沉积抛光装置和清洁设备，涉及半导体设备清洁技术领域。该沉积抛光装置包括壳体、清洁台和清洁头，壳体设有容置槽；容置槽内设有排污孔。清洁台设于容置槽内，并与壳体固定连接；清洁台上设有导流孔，导流孔与排污孔连通。清洁头安装在清洁台上。有利于提高反应腔侧壁的清洗效率和清洁效果。
本实用新型沉积抛光装置和清洁设备在权利要求书中公布了：1.一种沉积抛光装置，其特征在于，包括：壳体，所述壳体设有容置槽；所述容置槽内设有排污孔；清洁台，所述清洁台设于所述容置槽内，并与所述壳体固定连接；所述清洁台上设有导流孔，所述导流孔与所述排污孔连通；清洁头，所述清洁头安装在所述清洁台上。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人甬矽半导体(宁波)有限公司，其通讯地址为：315400 浙江省宁波市余姚市中意宁波生态园滨海大道60号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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