恭喜浙江晟霖益嘉科技有限公司魏宇杰获国家专利权
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龙图腾网恭喜浙江晟霖益嘉科技有限公司申请的专利一种连续镀膜装置及方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119956340B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-24发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202510449800.X,技术领域涉及:C23C16/54;该发明授权一种连续镀膜装置及方法是由魏宇杰;廖承丰;吴宾宾;刘伟;徐钧设计研发完成,并于2025-04-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种连续镀膜装置及方法在说明书摘要公布了:本发明公开了连续镀膜装置,包括:至少一个第一镀膜腔,第一镀膜腔的底部设置有材料源,第一镀膜腔包括第一侧壁和第二侧壁,第一侧壁上设置有第一入口,第二侧壁上设置有第一出口;原子层沉积腔,包括设置在原子层沉积腔的底部的喷淋模块,喷淋模块包括出气面,出气面朝向原子层沉积腔的顶部,原子层沉积腔包括第三侧壁和第四侧壁,第三侧壁上设置有第二入口,第四侧壁上设置有第二出口;传输装置,传输装置用于运输承载有基片的载盘依次穿过第一入口、第一镀膜腔、第一出口、第二入口、原子层沉积腔和第二出口,第一出口与第二入口对应且选择性的连通,使得第一镀膜腔与原子层沉积腔依次对基片下表面进行镀膜。本发明公开了连续镀膜方法。
本发明授权一种连续镀膜装置及方法在权利要求书中公布了:1.一种连续镀膜装置,其特征在于,所述连续镀膜装置包括: 至少一个第一镀膜腔(21),所述第一镀膜腔的底部设置有材料源(22),所述第一镀膜腔包括第一侧壁和第二侧壁,所述第一侧壁上设置有第一入口,所述第二侧壁上设置有第一出口; 原子层沉积腔(31),所述原子层沉积腔包括喷淋模块(32),所述喷淋模块包括出气面,所述喷淋模块设置在所述原子层沉积腔的底部,所述出气面朝向所述原子层沉积腔的顶部,所述原子层沉积腔包括第三侧壁和第四侧壁,所述第三侧壁上设置有第二入口,所述第四侧壁上设置有第二出口; 传输装置,所述传输装置用于运输承载有基片的载盘依次穿过所述第一入口、所述第一镀膜腔、所述第一出口、所述第二入口、所述原子层沉积腔和所述第二出口,所述第一出口与所述第二入口对应且选择性的连通,使得所述第一镀膜腔与原子层沉积腔通过所述传输装置依次对基片的下表面进行镀膜。
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