恭喜上海芯东来半导体科技有限公司请求不公布姓名获国家专利权
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龙图腾网恭喜上海芯东来半导体科技有限公司申请的专利光刻机投影物镜像差在线检测方法、装置、介质、设备及系统获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119960273B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-27发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202510451202.6,技术领域涉及:G03F7/20;该发明授权光刻机投影物镜像差在线检测方法、装置、介质、设备及系统是由请求不公布姓名设计研发完成,并于2025-04-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本光刻机投影物镜像差在线检测方法、装置、介质、设备及系统在说明书摘要公布了:本发明提供了一种光刻机投影物镜像差在线检测方法、装置、介质、设备及系统,所述方法包括接收当前第一光信息、当前第二光信息、当前第三光信息和当前第四光信息;根据当前第一光信息、当前第二光信息、当前第三光信息、当前第四光信息以及设备参数信息,确定投影物镜的实际垂轴像差。解决了现有技术中存在的检测步骤复杂、耗时且成本高昂的问题。
本发明授权光刻机投影物镜像差在线检测方法、装置、介质、设备及系统在权利要求书中公布了:1.一种光刻机投影物镜像差在线检测方法,应用于控制器,其特征在于,包括: 接收当前第一光信息、当前第二光信息、当前第三光信息和当前第四光信息;其中,所述当前第一光信息包括光通过掩膜版图案照射后形成的光栅图案中第一区域内任一坐标的当前振幅信息和当前光强信息,所述当前第二光信息包括光通过掩膜版图案照射后形成的光栅图案中第二区域内任一坐标的当前振幅信息和当前光强信息,所述当前第三光信息包括光通过掩膜版图案照射后形成的光栅图案中第三区域内任一坐标的当前振幅信息和当前光强信息,所述当前第四光信息包括光通过掩膜版图案照射后形成的光栅图案中第四区域内任一坐标的当前振幅信息和当前光强信息; 根据所述当前第一光信息、所述当前第二光信息、所述当前第三光信息、所述当前第四光信息以及设备参数信息,确定投影物镜的实际垂轴像差; 所述根据所述当前第一光信息、所述当前第二光信息、所述当前第三光信息、所述当前第四光信息以及设备参数信息,确定投影物镜的实际垂轴像差,包括: 根据所述当前第一光信息、所述当前第二光信息、所述当前第三光信息、所述当前第四光信息计算得到当前相位信息;所述当前相位信息表征了当前投射光的实际波前相位分布; 根据所述当前相位信息和对应的设备参数信息,计算得到投影物镜在当前位置的当前垂轴像差; 根据所述当前相位信息和参考相位信息,控制工件台移动; 获取移动后的当前相位信息并根据移动后的当前相位信息和对应的设备参数信息,确定移动后的当前垂轴像差; 根据多个不同位置的垂轴像差确定所述投影物镜的实际垂轴像差; 所述振幅信息表征了所述光栅图案的调制深度;根据所述当前第一光信息、所述当前第二光信息、所述当前第三光信息、所述当前第四光信息计算得到当前相位信息,具体是通过以下公式计算得到的: ; 其中: ; ; ; ; 其中,tanφ为所述当前相位信息; I0(x,y)表征了所述第一区域内任一坐标光强信息;I1(x,y)表征了所述第二区域内任一坐标光强信息,I2(x,y)表征了所述第三区域内任一坐标光强信息,I3(x,y)表征了所述第一区域内任一坐标光强信息; Ib表征了所述光栅图案的背景光强,Ia表征了所述光栅图案的调制深度。
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