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恭喜上海普达特设备科技有限公司;上海普达特半导体设备有限公司刘培获国家专利权

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龙图腾网恭喜上海普达特设备科技有限公司;上海普达特半导体设备有限公司申请的专利一种用于硅片电镀的推拉阀体和电镀设备获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223033489U

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-27发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202422008569.4,技术领域涉及:C25D17/00;该实用新型一种用于硅片电镀的推拉阀体和电镀设备是由刘培;严必明;李双亮;张国才设计研发完成,并于2024-08-19向国家知识产权局提交的专利申请。

一种用于硅片电镀的推拉阀体和电镀设备在说明书摘要公布了:本实用新型提供一种用于硅片电镀的推拉阀体和电镀设备,该推拉阀体包括:主箱体顶端安装有上连接环,底端开设有与上连接环连通的下连接口,副箱体通过隔离板与主箱体固定连接;推拉单元包括气缸和阀芯,气缸安装在副箱体内,气缸的伸缩杆贯穿隔离板并延伸至主箱体中;阀芯设于主箱体中,阀芯通过连接件安装于伸缩杆的延伸端;收集腔设于阀芯上端面;排液单元包括排液通道和至少一个排液管,排液通道的入口端与收集腔的底端连通,排液管的入口端与排液通道的出口端连通。本实用新型中的推拉阀体连接于电镀设备中工艺槽和辅槽之间,可同时用于电镀设备清洗、电镀工作两种状态时的液体排出,可大规模用于电镀和有易结晶溶液的工艺设备中。

本实用新型一种用于硅片电镀的推拉阀体和电镀设备在权利要求书中公布了:1.一种用于硅片电镀的推拉阀体,其特征在于,所述推拉阀体包括: 箱体,所述箱体包括主箱体和副箱体,所述主箱体的顶端安装有上连接环,所述主箱体的底端开设有与所述上连接环相对应连通的下连接口,所述副箱体通过隔离板与所述主箱体固定连接; 推拉单元,所述推拉单元包括气缸和阀芯,所述气缸安装在所述副箱体内部,所述气缸的伸缩杆贯穿所述隔离板并延伸至所述主箱体中;所述阀芯设置于所述主箱体中,所述阀芯相邻于所述隔离板的一端通过连接件安装于所述伸缩杆的延伸端,所述伸缩杆带动所述阀芯在所述主箱体中来回移动; 收集腔,所述收集腔开设于所述阀芯的上端面,当所述阀芯移动至所述上连接环正下方时,所述收集腔的开口端与所述上连接环相互连通,自所述上连接环流下来的液体收集于所述收集腔中; 排液单元,所述排液单元包括排液通道和排液管,所述排液通道的入口端与所述收集腔的底端连通,所述排液管至少设置有一个,所述排液管的入口端与所述排液通道的出口端连通,所述收集腔中收集的液体流体所述排液通道中并经所述排液管排出至回收槽。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人上海普达特设备科技有限公司;上海普达特半导体设备有限公司,其通讯地址为:200120 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区浦东南路855号世界广场23楼C、D座;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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