恭喜全芯智造技术有限公司请求不公布姓名获国家专利权
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龙图腾网恭喜全芯智造技术有限公司申请的专利用于光刻模拟的方法、设备和介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119916655B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510415564.X，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权用于光刻模拟的方法、设备和介质是由请求不公布姓名设计研发完成，并于2025-04-01向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于光刻模拟的方法、设备和介质在说明书摘要公布了：本公开的实施例涉及用于光刻模拟的方法、设备和介质。在此提出的方法包括：从初始光学信号中，确定与光刻工艺中的多次光刻对应的多个光学信号分量；基于多次曝光各自对应的工艺参数，对多个光学信号分量中的各个光学信号分量进行调整，以确定与光刻工艺有关的目标光学信号；以及至少基于目标光学信号，确定光刻胶在经过光刻工艺后的模拟形貌。
本发明授权用于光刻模拟的方法、设备和介质在权利要求书中公布了：1.一种用于光刻模拟的方法，其特征在于，包括： 从初始光学信号中，确定与光刻工艺中的多次曝光对应的多个光学信号分量，其中所述初始光学信号是光学系统的至少一种光学参数的特征表示； 基于所述多次曝光各自对应的工艺参数，对所述多个光学信号分量中的各个光学信号分量进行调整，以确定与所述光刻工艺有关的目标光学信号；以及 至少基于所述目标光学信号，确定光刻胶在经过所述光刻工艺后的模拟形貌。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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