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龙图腾网获悉富士胶片株式会社申请的专利感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115997167B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180041834.5，技术领域涉及：G03F7/004；该发明授权感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜是由小岛雅史;高田晓;后藤研由;川端健志;牛山爱菜设计研发完成，并于2021-05-19向国家知识产权局提交的专利申请。

本感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜在说明书摘要公布了：本发明的第1课题在于提供一种可获得良好的形状的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，本发明的第2课题在于提供一种与上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物相关的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。并且，本发明的第3课题在于提供一种能够适合用于上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的化合物。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物、重均分子量为30,000以下的酸分解性树脂及溶剂，上述通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物包含化合物I。

本发明授权感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜在权利要求书中公布了：1.一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其包含通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物以及重均分子量为30000以下的通过酸的作用进行分解而极性增大的树脂， 所述通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物包含下述化合物I， 化合物I：具有2个以上的下述结构部位X及1个下述结构部位Y，并且通过光化射线或放射线的照射而产生包含2个以上的来源于所述结构部位X的第1酸性部位及来源于所述结构部位Y的第2酸性部位的酸， 结构部位X：由阴离子部位A1 -及阳离子部位C1 +组成，并且通过光化射线或放射线的照射而形成由HA1表示的第1酸性部位， 结构部位Y：由阴离子部位B1 -及阳离子部位C2 +组成，并且通过光化射线或放射线的照射而形成由HB1表示的第2酸性部位， 其中，化合物I满足下述条件I， 条件I：在所述化合物I中，用H+取代所述结构部位X中的所述阳离子部位C1 +及所述结构部位Y中的所述阳离子部位C2 +而成的化合物PI具有：酸解离常数a，来源于用H+取代所述结构部位X中的所述阳离子部位C1 +而成且由HA1表示的酸性部位；以及酸解离常数b，来源于用H+取代所述结构部位Y中的所述阳离子部位C2 +而成且由HB1表示的酸性部位，并且，所述酸解离常数b大于所述酸解离常数a，当所述化合物PI具有多个来源于用H+取代所述结构部位X中的所述阳离子部位C1 +而成的由HA1表示的酸性部位的酸解离常数时，所述酸解离常数b的值大于多个酸解离常数a中最大的值。

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