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龙图腾网获悉宁波隆源股份有限公司申请的专利基于拓扑优化的高真空压铸模具多重密封方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119442538B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510007504.4，技术领域涉及：G06F30/17；该发明授权基于拓扑优化的高真空压铸模具多重密封方法及系统是由林国栋;陈浩;潘曙光;杨红领;沈伦廉;唐梦君;陈艳华设计研发完成，并于2025-01-03向国家知识产权局提交的专利申请。

本基于拓扑优化的高真空压铸模具多重密封方法及系统在说明书摘要公布了：本发明提供基于拓扑优化的高真空压铸模具多重密封方法及系统，涉及模具结构技术领域，包括建立密封结构参数化模型，获取型腔壁面几何参数和边界条件，构建初始设计域并划分网格单元；基于考虑接触应力分布的多目标函数进行拓扑优化计算，采用SIMP法迭代优化网格单元相对密度；根据获得的密封结构拓扑构型进行多重密封结构设计，构建三维实体模型并通过有限元分析验证密封性能。

本发明授权基于拓扑优化的高真空压铸模具多重密封方法及系统在权利要求书中公布了：1.基于拓扑优化的高真空压铸模具多重密封方法，其特征在于，包括： 建立密封结构参数化模型，包括：获取模具的型腔壁面的几何参数和边界条件，构建密封结构的初始设计域，在初始设计域中划分网格单元，将网格单元的相对密度作为设计变量，建立密封结构与型腔壁面的接触约束条件，构建考虑接触应力分布的多目标函数，包括：根据网格单元的相对密度分布和接触区域的应力分布，构建包含体积分数目标、冯·米塞斯应力目标和接触压力标准差目标的多目标函数；体积分数目标为单元相对密度与单元体积的乘积之和与初始设计域体积的比值，冯·米塞斯应力目标采用p范数形式表征单元冯·米塞斯应力与许用应力的比值，接触压力标准差目标为接触压力标准差与平均接触压力的比值；对多目标函数设置体积约束、应力约束和密度约束条件，密度约束条件限定单元相对密度的取值范围； 基于所述多目标函数进行拓扑优化计算，包括：采用固体各向同性材料惩罚法对网格单元的相对密度进行迭代优化，在每次迭代过程中计算密封结构与型腔壁面的接触应力分布，根据所述接触应力分布对多目标函数进行修正，直至获得满足收敛条件的密封结构拓扑构型； 依据密封结构拓扑构型进行多重密封结构设计，包括：提取密封结构拓扑构型的边界轮廓，基于边界轮廓构建多重密封结构的三维实体模型，对所述三维实体模型进行有限元分析，验证密封性能，根据有限元分析结果对多重密封结构进行优化调整，包括：基于有限元分析结果建立以泄漏率和最大应力为优化目标、以接触压力和密封变形为约束条件的结构优化模型；采用序列二次规划方法求解所述结构优化模型，对所述三维实体模型中的密封台角度、曲率、过渡区域形状及尺寸参数进行迭代优化，直至满足密封性能要求的步骤包括：所述泄漏率基于接触变形量、接触压力、表面粗糙度修正系数、泄漏路径长度和流体参数计算得到，所述最大应力采用冯·米塞斯等效应力准则计算得到；采用正交试验设计方法计算密封台角度、曲率、过渡区域形状及尺寸参数对所述泄漏率和最大应力的敏感度系数；基于所述敏感度系数对所述结构优化模型采用序列二次规划方法进行求解，通过计算梯度向量和二阶导数矩阵构建二次规划子问题，对所述密封台角度、曲率、过渡区域形状及尺寸参数进行优化迭代；当泄漏率和最大应力满足密封性能要求时，输出最优的密封台角度、曲率、过渡区域形状及尺寸参数。

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