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龙图腾网获悉云南大学申请的专利一种多取代五环螺吲哚啉衍生物及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116284027B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310033961.1，技术领域涉及：C07D491/20；该发明授权一种多取代五环螺吲哚啉衍生物及其制备方法是由陈文;张洪彬;田红畅;吴银霞;李秀娟;郝桢;何文言;黄湘棣;羊晓东设计研发完成，并于2023-01-10向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种多取代五环螺吲哚啉衍生物及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种多取代五环螺吲哚啉衍生物的制备方法，其是在室温条件下将化合物1、三氟醋酐和三氟醋酸溶在溶剂中，在氮气气氛、30℃～100℃下反应5分钟‑60小时，制得化合物2；或化合物1、三氟醋酐和1,4‑二氮杂二环[2.2.2]辛烷溶在溶剂中制得化合物2；或化合物1、三氟醋酐和N,N‑二甲基‑4‑吡啶胺溶在溶剂中制得化合物2；本发明采用“串联反应”，一步合成多取代五环螺吲哚啉衍生物，反应条件温和、成本低廉、不需要额外加入贵金属催化剂和试剂，适用于工业化生产和市场推广应用。

本发明授权一种多取代五环螺吲哚啉衍生物及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种多取代五环螺吲哚啉衍生物的制备方法，其特征在于：在室温条件下，将化合物1、三氟醋酐和三氟醋酸溶在溶剂中，在氮气气氛、30℃~100℃下反应5分钟-60小时，制备得到化合物2； 或者将化合物1、三氟醋酐和1,4-二氮杂二环[2.2.2]辛烷溶在溶剂中反应制得化合物2； 或者将化合物1、三氟醋酐和N,N-二甲基-4-吡啶胺溶在溶剂中反应制得化合物2； ； 式中：R1选自C1-C10烷基、C2-C10烯基、C3-C8环烷基、6-10元芳基、5-10元杂芳基；R1-1为R1上的取代基团，R1-1选自卤素、硝基、C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C3-C8环烷基、C2-C8杂环烷基； R2选自C1-C10烷基、C2-C10烯基、C1-C6烷氧基、C3-C8环烷基、C2-C8杂环烷基、C1-C10二噁烷基；R2-1为R2上的取代基团，R2-1选自卤素、硝基、C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C3-C12环烷基、C2-C8杂环烷基；硅醚类保护基；R2-1-1为R2-1上的取代基团，R2-1-1选自C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C3-C12环烷基、C2-C8杂环烷基； R3选自H、C1-C10烷基、C2-C10烯基、C3-C8环烷基、C2-C8杂环烷基、6-10元芳基、5-10元杂芳基、硝基；R3-1为R3上的取代基团，R3-1选自卤素、C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C3-C12环烷基、C2-C8杂环烷基； R4选自H、C1-C10烷基、C3-C10烯基、C3-C8环烷基、C2-C8杂环烷基、6-10元芳基、5-10元杂芳基；R4-1为R4上的取代基团，R4-1选自卤素、C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C3-C12环烷基、C3-C8杂环烷基、6-10元芳基、5-10元杂芳基；R4-1-1为R4-1上的取代基团，R4-1-1选自C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C3-C12环烷基、C2-C8杂环烷基； R5选自H、C1-C10烷基、C2-C10烯基、C3-C8环烷基、C2-C8杂环烷基、6-10元芳基、5-10元杂芳基、卤素、硝基；R5-1为R5上的取代基团，R5-1选自卤素、C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C3-C12环烷基、C3-C8杂环烷基、硝基；R5-1-1为R5-1上的取代基团，R5-1-1选自C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C3-C12环烷基、C2-C8杂环烷基； R6选自H、C1-C10烷基、C2-C10烯基、C3-C8环烷基、C2-C8杂环烷基、6-10元芳基、5-10元杂芳基、卤素、硝基；R6-1为R6上的取代基团，R6-1选自卤素、C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C3-C12环烷基、C3-C8杂环烷基、硝基；R6-1-1为R6-1上的取代基团，R6-1-1选自C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C3-C12环烷基、C2-C8杂环烷基； R7选自H、C1-C10烷基、C2-C10烯基、C3-C8环烷基、C2-C8杂环烷基、6-10元芳基、5-10元杂芳基、卤素、硝基；R7-1为R7上的取代基团，R7-1选自卤素、C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C3-C12环烷基、C3-C8杂环烷基、硝基；R7-1-1为R7-1上的取代基团，R7-1-1选自C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C3-C12环烷基、C2-C8杂环烷基； R8选自H、C1-C10烷基、C2-C10烯基、C3-C8环烷基、C2-C8杂环烷基、6-10元芳基、5-10元杂芳基、卤素、硝基；R8-1为R8上的取代基团，R8-1选自卤素、C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C3-C12环烷基、C3-C8杂环烷基、硝基；R8-1-1为R8-1上的取代基团，R8-1-1选自C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C3-C12环烷基、C2-C8杂环烷基。

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