北京特思迪半导体设备有限公司郝元龙获国家专利权
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龙图腾网获悉北京特思迪半导体设备有限公司申请的专利抛光压盘及抛光设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119820454B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510330221.3，技术领域涉及：B24B29/02；该发明授权抛光压盘及抛光设备是由郝元龙;曾星明;孟炜涛;蒋继乐设计研发完成，并于2025-03-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本抛光压盘及抛光设备在说明书摘要公布了：本发明公开了一种抛光压盘及抛光设备，包括：支持盘、抛光盘和支点件；支点件的两端分别与支持盘和抛光盘的第一端相连；支持盘与抛光盘远离抛光端面的第二端之间设置有膨胀腔，通过控制膨胀腔内的压力使外腔壁产生形变，使外腔壁通过抛光盘的第二端传递力矩，并使抛光盘的第二端通过支点件向抛光盘的抛光端面传递力矩，在力矩作用下抛光盘的抛光面型发生形变。本发明使得膨胀腔的布置位置更为灵活，膨胀腔的结构设置更为简单。同时在调整抛光面型的过程中，仅需要调整该膨胀腔内的压力使膨胀腔的外腔壁产生形变，相较于相关技术中需要内外环调节装置配合而言，在控制上也更为简单。
本发明授权抛光压盘及抛光设备在权利要求书中公布了：1.一种抛光压盘，其特征在于，包括：支持盘、抛光盘和支点件； 所述抛光盘的中部形成有内凹结构，所述支持盘的下部延伸入所述内凹结构中，所述支点件的两端分别与所述支持盘和所述抛光盘的第一端固定连接；所述支持盘与所述抛光盘远离抛光端面的第二端之间设置有膨胀腔，所述支点件位于所述抛光端面与所述抛光盘的第二端之间； 通过控制所述膨胀腔内的压力使外腔壁产生形变，使所述外腔壁通过所述抛光盘的第二端传递力矩，并使抛光盘的第二端通过所述支点件向所述抛光盘的抛光端面传递力矩，在所述力矩作用下所述抛光盘的抛光面型发生形变。
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