中科超精(南京)科技有限公司请求不公布姓名获国家专利权
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龙图腾网获悉中科超精(南京)科技有限公司申请的专利一种双层多叶光栅及成野优化方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118121852B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410115807.3，技术领域涉及：A61N5/10；该发明授权一种双层多叶光栅及成野优化方法是由请求不公布姓名设计研发完成，并于2024-01-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种双层多叶光栅及成野优化方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种双层光栅叶片位置优化方法，该优化方法通过构建射野与主准直层叶片位置映射关系，获得当前射野时对应主准直层每侧叶片位置，然后根据辅助准直层每侧叶片位置与主准直层每侧叶片偏离中心轴的位置差、依据实际放射源情况以及主准直层两侧相对叶片间距，建立辅助准直层每侧叶片射野尺寸影响因子序列，通过影响因子优化辅助准直层叶片位置，实现靶区剂量优化，提高治疗精度，改善放射治疗的增益。
本发明授权一种双层多叶光栅及成野优化方法在权利要求书中公布了：1.一种双层光栅叶片位置优化方法，包括第一光栅叶片组和第二光栅叶片组，其特征在于，包括以下步骤， S1、设定其中一个光栅叶片组为主准直层，用于形成适形射野Li，另一光栅叶片组为辅助准直层，用于成野辅助； S2、构建射野Li与主准直层叶片位置映射关系，获得射野对应主准直层每侧叶片位置LZAi、LZBi； S3、构建每侧辅助准直层叶片位置与主准直层叶片偏离中心轴的位置差ΔXAi、ΔYBi序列； S4、依据实际放射源尺寸及主准直层两侧相对叶片间距En，建立辅助准直层每侧叶片射野尺寸影响因子ξAin、ξBin； S5、依据步骤S2-S4，获得当前辅助准直层每侧叶片位置L’ZAi、L’ZBi： L’ZAi＝LZAi±1+ξAinΔXAi L’ZBi＝LZBi±1+ξBinΔYBi S6、经位置优化的辅助准直层叶片，与主准直层叶片一起形成优化射野，实现精准照射。
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