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龙图腾网获悉SKC株式会社申请的专利聚酰胺基膜、其制备方法，以及包括其的覆盖窗和显示装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115725175B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211046811.6，技术领域涉及：C08L77/10；该发明授权聚酰胺基膜、其制备方法，以及包括其的覆盖窗和显示装置是由吴大成;金善焕;李辰雨设计研发完成，并于2022-08-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本聚酰胺基膜、其制备方法，以及包括其的覆盖窗和显示装置在说明书摘要公布了：本发明提供了一种聚酰胺基膜，其包含聚酰胺基聚合物，并且基于50μm的膜的厚度具有如以下等式1表示的3.4mN至5.0mN的RSRA值，该膜具有优异的环刚度、静态弯曲特性和折叠特性，同时确保至少一定水平的机械和光学性能，本发明还公开了该聚酰胺基膜的制备方法，以及包括该膜的覆盖窗和显示装置。等式1RSRA＝RSRMD+RSRTD2在等式1中，RSRMD是在室温下以膜的MD方向为纵向方向测量的环刚度值，RSRTD是在室温下以膜的TD方向为纵向方向测量的环刚度值。

本发明授权聚酰胺基膜、其制备方法，以及包括其的覆盖窗和显示装置在权利要求书中公布了：1.一种聚酰胺基膜，其包括聚酰胺基聚合物，并且基于50μm的膜的厚度具有如以下等式1表示的3.6mN至4.2mN的RSRA值， 等式1RSRA＝RSRMD+RSRTD2 在等式1中，RSRMD是在室温下以膜的MD方向为纵向方向测量的环刚度值，RSRTD是在室温下以膜的TD方向为纵向方向测量的环刚度值， 其中，所述聚酰胺基聚合物包括来源于二胺化合物和二羰基化合物的聚合的酰胺重复单元，并且其任选地包括来源于二胺化合物和二酐化合物的聚合的酰亚胺重复单元， 所述二酐化合物为2,2'-双-3,4-二羧基苯基六氟丙烷二酐和3,3',4,4'-联苯四羧酸二酐组成的组中的至少一种，所述二羰基化合物为对苯二甲酰氯、1,1'-联苯-4,4'-二羰基二氯、间苯二甲酰氯，或它们的组合，所述二胺化合物为2,2'-双三氟甲基-4,4'-二氨基联苯， 所述聚酰胺基聚合物包含摩尔比为0:100至70:30的酰亚胺基重复单元和酰胺基重复单元， 基于50μm的膜厚度，其具有如以下等式2表示的3.7mN至4.2mN的RSLA值： 等式2RSLA＝RSLMD+RSLTD2 在等式2中，RSLMD是膜在-20℃下放置2小时后，在1分钟内，以膜的MD方向为纵向方向测量的环刚度值，RSLTD是膜在-20℃下放置2小时后，在1分钟内，以膜的TD方向为纵向方向测量的环刚度值， 所述聚酰胺基膜由以下方法制备： 在有机溶剂中聚合二胺化合物、二羰基化合物和任选的二酐化合物，以制备聚酰胺基聚合物溶液； 流延溶液，然后干燥，以制备凝胶片；以及 对凝胶片进行热处理， 其中，对凝胶片进行热处理的步骤是通过将凝胶片的横向两端用固定部固定，并在改变固定的凝胶片的宽度的同时对其进行热处理， 其中，对凝胶片进行热处理的步骤包括通过至少一个热风机供应的热空气进行第一热处理，以及通过至少一个加热器进行第二热处理，以及 进行第一热处理步骤的部分称为第一热处理部分， 进行第二热处理步骤的部分称为第二热处理部分， 第一热处理部分中凝胶片的最大宽度称为Wa， 第一热处理部分中凝胶片的最小宽度称为Wb，以及 第一热处理部分和第二热处理部分中凝胶片的最小宽度称为Wc， WbWa的值为0.955至0.990，并且WcWa的值为0.950至0.990， 其中，满足WaWbWc的条件； 其中当将基于50μm厚度的膜折叠成具有2mm的曲率半径，然后将其在25℃下放置24小时，并且释放施加到该膜上的力，膜的内角为160°或更大；其中聚酰胺基膜进一步包括选自由蓝色颜料和UVA吸收剂组成的组中的至少一种。

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