华中科技大学;深圳华中科技大学研究院;华中科技大学同济医学院附属同济医院姜胜林获国家专利权
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龙图腾网获悉华中科技大学;深圳华中科技大学研究院;华中科技大学同济医学院附属同济医院申请的专利一种高灵敏度表面增强拉曼散射基板及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115128058B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210709037.6，技术领域涉及：G01N21/65；该发明授权一种高灵敏度表面增强拉曼散射基板及其制备方法是由姜胜林;苏东;梁华庚;宋博翔设计研发完成，并于2022-06-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种高灵敏度表面增强拉曼散射基板及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种高灵敏度表面增强拉曼散射基板及其制备方法，属于功能纳米材料和分析检测技术领域。本发明以紧密堆积的单层纳米微球作为模板，对沉积过程中的金属原子引入离心势能，金属原子在离心势能的影响下将通过改变其在基板上的成核密度而改变后续的生长状态，并在离心势能的作用下，后续沉积的金属原子将自发的形成具有低于5nm缝隙的金纳米结构。利用本发明方法制备的周期缝隙纳米结构，其作为表面增强拉曼散射基板对常用的检测标志物的增益达到7.9×109，探测的浓度极限最低可达到10‑12M，达到了单分子级别的探测水平，对表面增强拉曼散射基板应用于生物制药以及临床医学等需要单分子级别的的分子检测技术具有重要价值。
本发明授权一种高灵敏度表面增强拉曼散射基板及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种高灵敏度表面增强拉曼散射基板的制备方法，其特征在于，包括： S1.对覆盖有单层紧密堆积的纳米微球阵列的基板进行金属原子的蒸发沉积镀膜，并在镀膜过程中保持基板以恒定的角速度旋转；镀膜过程中基板的旋转速度为12°s-300°s；镀膜过程中金属原子的蒸发速度为0.01nm-0.5nm；纳米微球的直径为350nm； S2.将纳米微球阵列从镀膜后的基板上剥离，得到高灵敏度表面增强拉曼散射基板；其中，所述表面增强拉曼散射基板上分布有长程有序的周期纳米结构，每个纳米结构单元具有能够产生超过109拉曼增益的纳米缝隙，纳米缝隙的平均尺寸小于5nm。
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