施赖纳集团两合公司卡塔琳娜·当托内洛获国家专利权
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龙图腾网获悉施赖纳集团两合公司申请的专利具有篡改保护的薄膜复合件获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115457856B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-15发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202210634040.6,技术领域涉及:G09F3/02;该发明授权具有篡改保护的薄膜复合件是由卡塔琳娜·当托内洛;伯恩哈德·席尔德万;塞巴斯蒂安·迪克;马克·瓦尔特;延斯·沃尔·德·布吕根设计研发完成,并于2022-06-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本具有篡改保护的薄膜复合件在说明书摘要公布了:一种具有篡改保护的薄膜复合件1,包括:基膜10,所述基膜在薄膜复合件中作为最下方的层设置;以及覆盖层40,所述覆盖层在薄膜复合件中作为最上方的层设置。此外,薄膜复合件1包括:中间膜20,所述中间膜设置在基膜10和覆盖层40之间;和可激光标记的层30,所述可激光标记的层在薄膜复合件中设置在基膜10和中间膜20之间。在薄膜复合件1中设有减薄线50,所述减薄线在基膜10之内和在中间膜20之内伸展。
本发明授权具有篡改保护的薄膜复合件在权利要求书中公布了:1.一种具有篡改保护的薄膜复合件1,包括: -基膜10,所述基膜作为最下方的层被设置在所述薄膜复合件中; -覆盖层40,所述覆盖层作为最上方的层被设置在所述薄膜复合件中, -中间膜20,所述中间膜被设置在所述基膜10和所述覆盖层40之间, -可激光标记的层30,所述可激光标记的层在所述薄膜复合件中被设置在所述基膜10和所述中间膜20之间, -附着层80,所述附着层为了将所述中间膜20与所述覆盖层40连接而设置在所述中间膜20和所述覆盖层40之间, -其中在所述薄膜复合件中设有减薄线50,所述减薄线在所述基膜10之内,在所述可激光标记的层30之内和在所述中间膜20之内伸展,并且 -其中所述附着层80构成为,使得所述附着层80与所述中间膜20的附着力小于所述附着层80与所述覆盖层40的附着力。
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