绍兴中芯集成电路制造股份有限公司史爽获国家专利权
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龙图腾网获悉绍兴中芯集成电路制造股份有限公司申请的专利一种机械手及利用其改善槽式刻蚀均匀性的晶圆浸蚀方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114373710B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111445036.7，技术领域涉及：H01L21/687；该发明授权一种机械手及利用其改善槽式刻蚀均匀性的晶圆浸蚀方法是由史爽设计研发完成，并于2021-11-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种机械手及利用其改善槽式刻蚀均匀性的晶圆浸蚀方法在说明书摘要公布了：本发明公开一种机械手及利用其改善槽式刻蚀均匀性的晶圆浸蚀方法，其中浸蚀方法，包括n次浸蚀工序，每次浸蚀工序包括如下步骤：步骤一、机械手将晶圆送入腐蚀液中：机械手夹持晶圆至腐蚀液槽体上方，一侧机械臂保持不动，另一侧机械臂向外旋转展开，晶圆沿着保持不动的机械臂下臂斜向下滚动，落入下方腐蚀液；步骤二、机械手将晶圆从槽体底部垂直夹起。利用该机械手使得晶圆浸蚀方法具有改善晶圆槽式金属刻蚀均匀性的特点。
本发明授权一种机械手及利用其改善槽式刻蚀均匀性的晶圆浸蚀方法在权利要求书中公布了：1.一种改善槽式刻蚀均匀性的晶圆浸蚀方法，其特征在于：包括n次浸蚀工序，n≥2，每次浸蚀工序包括如下步骤： 步骤一、机械手将晶圆送入槽体内的腐蚀液中： 机械手包括竖直设置的两机械臂，两机械臂分为第一机械臂和第二机械臂，第一机械臂与第二机械臂两者铰接，通过两机械臂的配合实现夹持晶圆，令晶圆的圆周边缘被两机械臂夹持且令晶圆相对于槽体底面垂直；每个机械臂皆包括上臂和连接于上臂下端的下臂，第一机械臂的下臂和第二机械臂的下臂两者之间形成收拢状，第一机械臂的下臂长度大于第二机械臂的下臂长度，第一机械臂的下臂与水平面呈一锐角； 槽体底部设置限位结构，机械手夹持晶圆至腐蚀液槽体上方，第一机械臂保持不动，第二机械臂向外旋转展开，晶圆沿着第一机械臂下臂斜向下滚动，落入下方腐蚀液中的限位结构上； 设第二机械臂向外旋转展开之前晶圆的圆心到掉落至限位结构上的晶圆的圆心之间的水平距离为X，设晶圆被两机械臂夹持到掉落至限位结构上后，晶圆转动角度为a，n*a=360°，第一机械臂的下臂的长度≥2X； 步骤二、机械手将晶圆从槽体内夹起。
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