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龙图腾网获悉江苏鲁汶仪器有限公司申请的专利一种线圈结构能随放电腔结构进行变化的离子源获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114724912B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110002163.3，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权一种线圈结构能随放电腔结构进行变化的离子源是由张瑶瑶;刘小波;胡冬冬;张怀东;刘海洋;李娜;郭颂;李晓磊;许开东设计研发完成，并于2021-01-04向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种线圈结构能随放电腔结构进行变化的离子源在说明书摘要公布了：本发明公开了一种线圈结构能随放电腔结构进行变化的离子源，包括从外至内依次同轴设置的离子源腔、线圈支撑、线圈和放电腔本体；放电腔本体包括放电腔顶部、放电腔中部和放电腔底部；放电腔顶部为中空圆环；放电腔底部为中心设有进气孔的圆盘；放电腔中部包括上端直筒和下端Dome型筒；线圈支撑的外圈安装在离子源腔的内壁面，线圈支撑的内壁面形状与放电腔本体的形状相同；线圈安装在线圈支撑内，且包括筒形螺旋线圈和Dome型线圈；筒形螺旋线圈的位置与上端直筒的位置相对应，Dome型线圈与下端Dome型筒的位置相对应；每层线圈到放电腔本体外壁面的距离均相等。本发明将盘香形ICP源与筒状ICP源相结合，能够分段调节放电腔本体内的等离子体密度，改善刻蚀均匀性。

本发明授权一种线圈结构能随放电腔结构进行变化的离子源在权利要求书中公布了：1.一种线圈结构能随放电腔结构进行变化的离子源，其特征在于：包括从外至内依次同轴设置的离子源腔、线圈支撑、线圈和放电腔本体； 放电腔本体包括依次连接的放电腔顶部、放电腔中部和放电腔底部； 放电腔顶部为中空圆环，且位于等离子出口侧； 放电腔底部为中心设有进气孔的圆盘；其中，进气孔用于通入待电离气体；中空圆环的圆心和圆盘的圆心均位于放电腔本体的中心轴线上； 放电腔中部包括依次连接的上端直筒和下端Dome型筒；上端直筒的顶端与放电腔顶部依次连接，下端Dome型筒的底部与放电腔底部的外缘依次连接； 线圈支撑的外圈安装在离子源腔的内壁面，线圈支撑的内壁面形状与放电腔本体的形状相同； 线圈安装在线圈支撑内，线圈两端分别与射频源相连接；线圈包括筒形螺旋线圈和Dome型线圈；其中，筒形螺旋线圈的位置与上端直筒的位置相对应，Dome型线圈与下端Dome型筒的位置相对应；每层线圈到放电腔本体外壁面的距离均相等； 线圈到放电腔底部的距离可调； 假设放电腔本体的壁厚为H，每层线圈到放电腔本体外壁面的距离均为L，则H和L，根据放电腔本体内所需的等离子密度进行选择。

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