东京毅力科创株式会社孙亮获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基板支承台和等离子体处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112614768B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011010375.8，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权基板支承台和等离子体处理装置是由孙亮;高桥智之;佐佐木真也;佐佐木胜设计研发完成，并于2020-09-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板支承台和等离子体处理装置在说明书摘要公布了：本发明提供基板支承台和等离子体处理装置。提供用于响应性良好地控制载置于基板支承台的基板的温度的技术。在一个例示性的实施方式中提供一种基板支承台。基板支承台包括第1构件、第2构件、基板支承部以及一个以上的热电元件。第1构件在上部具有凹部，并为金属制。第2构件设于第1构件上，用于密封凹部，并为金属制。基板支承部设于第2构件上。热电元件配置于凹部。凹部由传热介质填满。
本发明授权基板支承台和等离子体处理装置在权利要求书中公布了：1.一种基板支承台，其中， 该基板支承台包括： 第1构件，其在上部具有凹部，并为金属制； 第2构件，其设于所述第1构件上，用于密封所述凹部，并为金属制； 基板支承部，其设于所述第2构件上； 流路，其设置在所述凹部下方并供调温介质流通；以及 一个以上的热电元件，其配置于所述凹部， 其中，以包围所述基板支承部的方式配置有边缘环； 所述基板支承部包括具有电介质和位于所述电介质内的吸附用电极的静电卡盘， 所述一个以上的热电元件包括配置在所述边缘环之下且在从水平方向上观察时在上下方向上与所述边缘环和所述流路重叠的热电元件， 所述凹部由传热介质填满，所述传热介质为液体。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
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