ASML荷兰有限公司M·A·范德柯克霍夫获国家专利权
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龙图腾网获悉ASML荷兰有限公司申请的专利图案形成装置调节系统以及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114556222B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080071627.X，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权图案形成装置调节系统以及方法是由M·A·范德柯克霍夫;F·M·J·H·范德维特林;A·M·雅库尼恩设计研发完成，并于2020-09-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本图案形成装置调节系统以及方法在说明书摘要公布了：一种掩模版调节系统，包括：支撑结构，该支撑结构用于支撑掩模版；气体供应模块，该气体供应模块用于提供邻近于掩模版的气流；以及偏压模块，该偏压模块用于控制掩模版的电势。偏压模块包括第一电极、第二电极和电源。第一电极和第二电极每一个与掩模版间隔开，并且面向掩模版以与掩模版至少部分地重叠。电源被布置成将第一电极保持在正电压并且将第二电极保持在负电压，这些电压使得掩模版的电压为负。第二电极被设置成使得在使用中，第二电极不与掩模版的图像形成部分重叠。
本发明授权图案形成装置调节系统以及方法在权利要求书中公布了：1.一种用于光刻设备的图案形成装置调节系统，所述图案形成装置调节系统包括： 支撑结构，所述支撑结构用于支撑图案形成装置，所述支撑结构包括：用于支撑所述图案形成装置的图像形成部分的第一部分，以及用于支撑所述图案形成装置的非图像形成部分的第二部分； 气体供应模块，所述气体供应模块能够操作以提供邻近于所述支撑结构的气流；以及 偏压模块，所述偏压模块用于在所述图案形成装置由所述支撑结构支撑时控制所述图案形成装置的电势，所述偏压模块包括第一电极、第二电极和电源； 其中，所述第一电极和所述第二电极每一个与所述支撑结构间隔开并且面向所述支撑结构，以与所述支撑结构至少部分地重叠； 其中，所述电源被布置成将所述第一电极保持在第一正电压并且将所述第二电极保持在第二负电压； 其中，所述第二电极被设置成使得所述第二电极与所述支撑结构的所述第二部分至少部分地重叠，并且不与所述支撑结构的所述第一部分重叠。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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