ASML荷兰有限公司W·T·特尔获国家专利权
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龙图腾网获悉ASML荷兰有限公司申请的专利确定器件制造工艺的控制参数的方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114721232B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-15发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202210429378.8,技术领域涉及:G03F7/20;该发明授权确定器件制造工艺的控制参数的方法是由W·T·特尔;M·J·马斯洛;K·范因根·舍瑙;P·沃纳尔;A·斯拉克特;R·阿努西亚多;S·H·C·范戈尔普;F·斯塔尔斯;M·乔彻姆森设计研发完成,并于2018-08-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本确定器件制造工艺的控制参数的方法在说明书摘要公布了:本文中公开了一种用于确定制造工艺的一个或多个控制参数的方法,所述制造工艺包括光刻工艺和一个或多个另外的工艺,所述方法包括:获取衬底的至少一部分的图像,其中所述图像包括通过制造工艺而被制造在衬底上的至少一个特征;取决于从图像确定的轮廓,计算一个或多个图像相关度量,其中图像相关度量中的一项是至少一个特征的边缘位置误差EPE;以及取决于边缘位置误差,确定光刻工艺和或一个或多个另外的工艺的一个或多个控制参数,其中至少一个控制参数被确定以便最小化至少一个特征的边缘位置误差。
本发明授权确定器件制造工艺的控制参数的方法在权利要求书中公布了:1.一种衬底上的器件的制造工艺中的方法,其中所述制造工艺包括使用光刻设备将设计布局的一部分成像到所述衬底上的光刻工艺,以及在所述器件的所述制造工艺中的一个或多个其他工艺,所述方法包括: 获得所述衬底的至少一部分的图像,其中所述图像包括由在所述衬底上制造的所述器件所包括的至少一个特征; 根据从包括所述至少一个特征的所述图像确定的轮廓计算一个或多个图像相关度量;和 根据所述一个或多个图像相关度量来确定所述光刻设备和或所述器件的所述制造工艺中的所述一个或多个其他工艺的多个控制参数,其中所述控制参数中的至少两个控制参数是共同确定的。
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