杭州电子科技大学陈旭获国家专利权
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龙图腾网获悉杭州电子科技大学申请的专利一种亚分辨率辅助图形的插入方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119960251B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-18发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202510451625.8,技术领域涉及:G03F1/36;该发明授权一种亚分辨率辅助图形的插入方法是由陈旭;张正民设计研发完成,并于2025-04-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种亚分辨率辅助图形的插入方法在说明书摘要公布了:本发明公开一种亚分辨率辅助图形的插入方法,具体为亚分辨率辅助图形插入规则的优化方法以及应用该优化方法的亚分辨率辅助图形的插入方法,先设定亚分辨率辅助图形参数,根据主图形选择距离度量函数,并采用有符号距离函数将主图形转换为水平集合表示;然后根据所设定的亚分辨率辅助图形参数,在主图形周围插入多圈亚分辨率辅助图形;对多圈亚分辨率辅助图形进行冲突清理,最后进行倒角操作,完成优化。改变上述亚分辨率辅助图形参数并进行分别插入,选择掩模优化效果提升最大的插入规则,作为最终使用的亚分辨率辅助图形插入规则。本发明具有参数简洁、掩模可制造性高和掩模优化效果显著等优点,适用于下一代集成电路制造领域。
本发明授权一种亚分辨率辅助图形的插入方法在权利要求书中公布了:1.一种亚分辨率辅助图形插入规则的优化方法,其特征在于,包括以下步骤: S1、设定亚分辨率辅助图形参数,包括亚分辨率辅助图形与主图形的距离d1、亚分辨率辅助图形之间的距离d2以及亚分辨率辅助图形的宽度w; S2、根据主图形选择距离度量函数,并采用有符号距离函数SDF表示设计版图中每个点与主图形边界的距离,将主图形转换为水平集合表示;所述距离度量函数采用切比雪夫距离; S3、根据所设定的亚分辨率辅助图形参数,在主图形周围插入多圈亚分辨率辅助图形;所述亚分辨率辅助图形的形状为正方形; S4、对多圈亚分辨率辅助图形进行冲突清理;具体包括: (1)检测亚分辨率辅助图形之间的间距冲突: 若相邻的亚分辨率辅助图形之间的间距小于最小图形间距,则判定其存在冲突,反之则不存在冲突;若发生冲突的亚分辨率辅助图形处于不同的圈层,则保留靠近主图形的内圈亚分辨率辅助图形,并删除外圈的冲突图形; 若发生冲突的亚分辨率辅助图形处于同一圈层,则随机删除其一以消除冲突; (2)检测亚分辨率辅助图形的宽度冲突: 若亚分辨率辅助图形的宽度小于最小图形宽度,则判定其存在冲突,将亚分辨率辅助图形的宽度向外扩展至符合最小图形宽度要求;反之则不存在冲突; 若亚分辨率辅助图形的宽度大于预设的宽度参数w,则判定其存在冲突,将亚分辨率辅助图形的宽度向内收缩至w;反之则不存在冲突; S5、对冲突清理后的多圈亚分辨率辅助图形进行倒角操作,获得正八边形的亚分辨率辅助图形,完成对亚分辨率辅助图形插入规则的优化;对设计版图进行光学临近效应修正,评估掩模优化效果; S6、改变亚分辨率辅助图形参数,重复步骤S2至S5,若掩模优化效果优于先前插入规则,则更新插入规则,直至获得最优插入规则。
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