内蒙古大学沈慧获国家专利权
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龙图腾网获悉内蒙古大学申请的专利一种用于浅槽隔离的改性氧化铈抛光液及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119875518B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510378951.0，技术领域涉及：H01L21/304；该发明授权一种用于浅槽隔离的改性氧化铈抛光液及其制备方法是由沈慧;高博;李思敏设计研发完成，并于2025-03-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种用于浅槽隔离的改性氧化铈抛光液及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种用于浅槽隔离的改性氧化铈抛光液及其制备方法，该抛光液以质量百分比计，主要由以下原料制得：改性氧化铈磨料；2%‑5%；去离子水；95%‑98%；其中所述改性氧化铈磨料包括氧化铈磨料与磺酸配体；所述磺酸配体为所述磺酸配体为左旋樟脑磺酸、邻甲苯磺酸、对甲苯磺酸或环己烷‑2‑磺酸中的一种或多种。在本发明的抛光液中，通过利用磺酸配体对氧化铈进行改性从而制备出抛光液，其中磺酸配体的引入使得氧化铈的表面活性增加，确保抛光液均匀分布的同时极大程度地提高抛光液对氧化硅层和氮化硅层的选择比，且磺酸配体的引入能够显著的增强氧化铈颗粒在溶液中的分散性，防止聚集。
本发明授权一种用于浅槽隔离的改性氧化铈抛光液及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种用于浅槽隔离的改性氧化铈抛光液，其特征在于，以质量百分比计，主要由以下原料制得： 改性氧化铈磨料：2%-5%； 去离子水：95%-98%； 其中所述改性氧化铈磨料包括氧化铈磨料与磺酸配体； 所述磺酸配体为左旋樟脑磺酸和环己烷-2-磺酸的混合； 所述左旋樟脑磺酸和所述环己烷-2-磺酸的质量比为2:3。
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