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北京特思迪半导体设备有限公司周惠言获国家专利权

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龙图腾网获悉北京特思迪半导体设备有限公司申请的专利晶圆膜厚标定库构建方法、测量方法及抛光设备获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119480676B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-18发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202510067186.0,技术领域涉及:H01L21/66;该发明授权晶圆膜厚标定库构建方法、测量方法及抛光设备是由周惠言;孟炜涛;孙昕宇;蒋继乐;黄银国;葛乃义设计研发完成,并于2025-01-16向国家知识产权局提交的专利申请。

晶圆膜厚标定库构建方法、测量方法及抛光设备在说明书摘要公布了:本发明提供一种晶圆膜厚标定库构建方法、测量方法及抛光设备,所述构建方法包括:获取适用于单层膜环境的膜厚反射率库,其中反射率值随厚度值的变化呈现周期性变化;获取已知不同厚度的两个晶圆薄膜对单波长光束的反射光的光强度对应的电信号和电信号;获取所述两个晶圆薄膜在多层膜环境下对所述单波长光束的反射光的光强度对应的电信号和电信号;根据电信号、电信号、电信号和电信号确定转换系数;利用所述转换系数将所述膜厚反射率库转换为适用于多层膜环境的数据库。

本发明授权晶圆膜厚标定库构建方法、测量方法及抛光设备在权利要求书中公布了:1.一种适用于多层膜的膜厚标定库构建方法,其特征在于,包括: 获取适用于单层膜环境的膜厚反射率库,其中反射率值随厚度值的变化呈现周期性变化; 获取已知不同厚度的两个晶圆薄膜对单波长光束的反射光的光强度对应的电信号和电信号; 获取所述两个晶圆薄膜在多层膜环境下对所述单波长光束的反射光的光强度对应的电信号和电信号; 根据电信号、电信号、电信号和电信号确定转换系数; 利用所述转换系数将所述膜厚反射率库转换为适用于多层膜环境的数据库。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人北京特思迪半导体设备有限公司,其通讯地址为:101300 北京市顺义区杜杨北街3号院6号楼(顺创);或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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