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芯越微电子材料(嘉兴)有限公司张楠获国家专利权

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龙图腾网获悉芯越微电子材料(嘉兴)有限公司申请的专利一种化学机械抛光液及其制备方法和应用获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119432235B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-18发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202510027004.7,技术领域涉及:C09G1/02;该发明授权一种化学机械抛光液及其制备方法和应用是由张楠;苏品全;刘江华设计研发完成,并于2025-01-08向国家知识产权局提交的专利申请。

一种化学机械抛光液及其制备方法和应用在说明书摘要公布了:本发明提供了一种化学机械抛光液及其制备方法和应用。所述化学机械抛光液包括:研磨颗粒、氧化剂、腐蚀抑制剂、pH调节剂、抛光促进剂和水。本发明通过在化学机械抛光液引入腐蚀抑制剂,可较好地抑制砷化镓晶片的腐蚀,并获得良好的抛光效果,砷化镓的去除速率可达到10000Åmin及以上,抛后表面粗糙度可低至0.32nm,静态腐蚀速率可低至125.31Åmin,能够实现较高抛光速率和良好表面粗糙度,同时具有较低的静态腐蚀速率和低的生产成本,实现砷化镓抛光液高效稳定的抛光。

本发明授权一种化学机械抛光液及其制备方法和应用在权利要求书中公布了:1.一种用于含砷化镓晶片的化学机械抛光液,其特征在于,由以下组分组成:研磨颗粒、氧化剂、腐蚀抑制剂、pH调节剂、抛光促进剂和水; 所述腐蚀抑制剂选自含氮五元杂环化合物、氨基醇化合物、氨基酸或氨基酸衍生物中的至少一种; 所述含氮五元杂环化合物中的N原子个数≥3; 所述含氮五元杂环化合物为带有给电子基团的三氮唑类化合物,所述给电子基团包括氨基、甲基或羟基中的任意一种或多种; 所述氨基醇化合物为主链为直链且碳原子数≤8的氨基醇化合物; 所述氨基酸或氨基酸衍生物不含有吸电子基团,所述吸电子基团包括羰基、酰基或酯基中的任意一种或多种; 所述化学机械抛光液的pH值为3~5; 所述抛光促进剂为硝酸钠、硝酸钾或硝酸铵中的至少一种。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人芯越微电子材料(嘉兴)有限公司,其通讯地址为:314200 浙江省嘉兴市平湖市钟埭街道新明路901号3号楼;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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