合肥晶合集成电路股份有限公司杨红运获国家专利权
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龙图腾网获悉合肥晶合集成电路股份有限公司申请的专利分离式真空阀门和半导体真空系统获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223120828U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-18发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422491739.9，技术领域涉及：F16K51/02；该实用新型分离式真空阀门和半导体真空系统是由杨红运;陈锦;刘春美设计研发完成，并于2024-10-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本分离式真空阀门和半导体真空系统在说明书摘要公布了：本实用新型涉及一种分离式真空阀门和半导体真空系统。一种分离式真空阀门，分离式真空阀门包括第一安装件和第二安装件，第一安装件的第一侧与第二安装件的第一侧可拆卸连接，第一安装件的第二侧用于接触真空设备；第二安装件的第二侧用于连接驱动件，驱动件用于驱动第二安装件远离或靠近真空设备。上述分离式真空阀门构造为真空设备进行包括第一安装件和第二安装件，由于第一安装件与第二安装件可分离，在需要对真空阀门进行拆卸时，可以独立地拆下第二安装件，并且当真空阀门部分损坏时，可以仅更换损坏的半部分，无需整体更换，降低更换成本。
本实用新型分离式真空阀门和半导体真空系统在权利要求书中公布了：1.一种分离式真空阀门，其特征在于，所述分离式真空阀门包括第一安装件和第二安装件，所述第一安装件的第一侧与所述第二安装件的第一侧可拆卸连接，所述第一安装件的第二侧用于接触真空设备；所述第二安装件的第二侧用于连接驱动件，所述驱动件用于驱动所述第二安装件远离或靠近所述真空设备。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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