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龙图腾网获悉普雨科技(苏州)有限公司申请的专利一种步进式重复纳米压印设备、控制方法及控制系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120178595B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510647187.2，技术领域涉及：G03F7/00；该发明授权一种步进式重复纳米压印设备、控制方法及控制系统是由程晨;吴述政;彭彬设计研发完成，并于2025-05-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种步进式重复纳米压印设备、控制方法及控制系统在说明书摘要公布了：本发明公开一种步进式重复纳米压印设备、控制方法及控制系统，涉及半导体制备技术领域。纳米压印设备的压印衬底包括呈阵列式排布的多个待压印区域，纳米压印设备包括位移模块和沿第一水平方向间隔设置的滴胶模块和压印模块，位移模块的顶部用于放置压印衬底，所述压印模块包括与所述待压印区域相匹配的压印模板，所述压印模板为光刻模板，位移模块设置成受控地沿第一水平方向在滴胶模块和压印模块之间进行往复运动或沿第二水平方向移动，每次往复运动用于实现一个待压印区域的滴胶和压印，位移模块沿第一水平方向的位移速率按照公式（1）计算。本发明的控制方法能够同时提高滴胶分布均匀性和纳米压印设备与传统投影式光刻工艺的兼容性。

本发明授权一种步进式重复纳米压印设备、控制方法及控制系统在权利要求书中公布了：1.一种步进式重复纳米压印设备，用于实现压印衬底的滴胶和压印，所述压印衬底包括呈阵列式排布的多个待压印区域，其特征在于，所述纳米压印设备包括位移模块和位于所述位移模块上方且沿第一水平方向间隔设置的滴胶模块和压印模块，所述位移模块的顶部用于放置所述压印衬底，所述压印模块包括与所述待压印区域相匹配的压印模板，所述压印模板为光刻模板，所述滴胶模块包括多个滴胶端口，多个所述滴胶端口沿第二水平方向间隔设置，每一所述滴胶端口均设置成开闭可控； 所述位移模块设置成受控地沿所述第一水平方向在所述滴胶模块和所述压印模块之间进行往复运动或沿第二水平方向移动，每次往复运动用于实现一个待压印区域的滴胶和压印，所述第二水平方向垂直于所述第一水平方向，所述位移模块沿所述第一水平方向的位移速率V按照以下公式计算： ； 其中，R为所述滴胶模块的单滴胶滴体积，F为滴胶频率，P为相邻两个所述滴胶端口的间距，有效填充高度M为所述压印模块的高度H与所述压印模块在单位胶滴区域内的占空比D的乘积。

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