北京华镁钛科技有限公司修威获国家专利权
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龙图腾网获悉北京华镁钛科技有限公司申请的专利一种基于薄膜介质的小型化耦合器获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN111293395B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-22发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202010212122.2,技术领域涉及:H01P5/12;该发明授权一种基于薄膜介质的小型化耦合器是由修威;田海燕;吴迪;杨光设计研发完成,并于2020-03-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种基于薄膜介质的小型化耦合器在说明书摘要公布了:本发明公开一种基于薄膜介质的小型化耦合器,其属于微波通信领域。该耦合器包括薄膜介质;位于所述薄膜介质一侧的四段枝节微带线;以及位于所述薄膜介质另一侧的开缝金属地。其中,薄膜介质厚度小于100um,耦合器边长尺寸小于0.08个波长。耦合器由两种尺寸的小型化90°微带线交替连接而成,充分利用了有限的空间,达到较高的空间利用率。本发明具有如下三点主要优势:①提出薄膜介质高阻抗传输线设计,提升薄膜介质微带线宽度,降低传输损耗,②提出基于L‑C振荡的薄膜介质传输线,实现基于薄膜介质的小型化传输线,③交错排布的耦合‑直通枝节,提升空间利用率,实现耦合器小型化设计。本发明在射频领域使用了薄膜介质,为通信、雷达领域的射频系统设计提供了新思路。
本发明授权一种基于薄膜介质的小型化耦合器在权利要求书中公布了:1.一种基于薄膜介质的小型化耦合器,其特征在于,包括: 薄膜介质; 位于所述薄膜介质一侧的四段枝节微带线;以及 位于所述薄膜介质另一侧的开缝金属地; 所述开缝金属地,是在完整的金属地上有设计刻蚀缝隙,配合另一侧微带线形成L-C振荡; 通过在微带线下方的金属地上设置缝隙,增加微带传输线的感性,然后在微带线两侧增加金属枝节来增加传输线的容性,通过调节缝隙和枝节实现不同频段下的L-C谐振; 枝节微带线为90°枝节微带线; 所述四段枝节微带线包括两段第一枝节微带线和两段第二枝节微带线; 所述第一枝节微带线是双枝节、三缝隙的微带线结构,两端微带线宽wl1_1=0.29mm,枝节的长宽分别为:ll1=0.21mm,wl1_2=0.7mm,两微带枝节间距dis1=0.035mm,三个缝隙尺寸相同,长宽分别为:sl1=0.558mm,sw1=0.02mm; 所述第二枝节微带线是双枝节、三缝隙的微带线结构,两端微带线宽wl2_1=0.18mm,枝节的长宽分别为:ll2=0.18mm,wl2_2=0.6mm,两微带枝节间距dis2=0.035mm,三个缝隙尺寸相同,长宽分别为:sl2=0.692mm,sw2=0.02mm。
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