科磊股份有限公司D·C·欧兰获国家专利权
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龙图腾网获悉科磊股份有限公司申请的专利用于调谐经调制晶片的敏感度及确定用于经调制晶片的工艺窗的系统、方法及非暂时性计算机可读媒体获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114203571B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111516089.3，技术领域涉及：H01L21/66；该发明授权用于调谐经调制晶片的敏感度及确定用于经调制晶片的工艺窗的系统、方法及非暂时性计算机可读媒体是由D·C·欧兰;A·马修尔;K·吴;E·希夫林设计研发完成，并于2017-11-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于调谐经调制晶片的敏感度及确定用于经调制晶片的工艺窗的系统、方法及非暂时性计算机可读媒体在说明书摘要公布了：本申请实施例涉及用于调谐经调制晶片的敏感度及确定用于经调制晶片的工艺窗的系统、方法及非暂时性计算机可读媒体。本发明提供一种用于调谐经调制晶片的敏感度及确定用于所述经调制晶片的工艺窗的系统、方法及非暂时性计算机可读媒体。基于单组参数而动态地调谐所述经调制晶片的裸片的敏感度。此外，依据现有所确定的参数特定标称工艺窗而确定用于所述经调制晶片的所述工艺窗。
本发明授权用于调谐经调制晶片的敏感度及确定用于经调制晶片的工艺窗的系统、方法及非暂时性计算机可读媒体在权利要求书中公布了：1.一种存储计算机程序产品的非暂时性计算机可读媒体，所述计算机程序产品具有能够由处理器执行以执行方法的代码，所述方法包括： 从具有根据至少两个参数而以不同方式经调制的多个裸片的晶片识别以下各项中的每一者： 第一裸片，其具有相对于所述多个裸片的调制的低调制， 第二裸片，其具有相对于所述多个裸片的所述调制的中等调制，及 第三裸片，其具有相对于所述多个裸片的所述调制的高调制； 基于泰勒级数展开函数，从所述第一裸片估计一阶偏移且从所述第二裸片及所述第三裸片中的每一者估计单独二阶偏移； 对所述晶片执行检验，针对经受所述检验的所述晶片的每一裸片： a使用从所述第一裸片估计的所述一阶偏移及从所述第二裸片估计的所述二阶偏移来动态地计算与所述裸片中的噪声水平对应的偏移，且 b将动态计算的偏移作为敏感度来应用于所述裸片。
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