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龙图腾网获悉深圳嘉信源科技实业有限公司申请的专利一种准分子激光与LIGA工艺结合的微孔结构加工方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120228516B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510705932.4，技术领域涉及：B23P15/00；该发明授权一种准分子激光与LIGA工艺结合的微孔结构加工方法及系统是由徐开敬;卢远劲;陈新建;余秋旋;徐海设计研发完成，并于2025-05-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种准分子激光与LIGA工艺结合的微孔结构加工方法及系统在说明书摘要公布了：本发明涉及微孔结构加工技术领域，且公开了一种准分子激光与LIGA工艺结合的微孔结构加工方法及系统，方法包括以下步骤，步骤S1，基板预处理，步骤S2，准分子激光光刻，步骤S3，显影与电铸模具制备，步骤S4，注塑成型与脱模；系统包括以下模块，模块M1，准分子激光模块，模块M2，LIGA工艺模块，模块M3，在线检测模块，模块M4，多材料兼容模块；本发明，通过氦气环境抑制等离子体密度至1016cm‑3以下，结合低温冷却气流同步降低高分子基板表面温度梯度，将热影响区宽度从传统工艺的5μm压缩至1.8μm，多层光刻胶结构的协同热响应机制，通过二氧化硅缓冲层吸收80%以上的激光热应力，避免界面剥离与微裂纹产生。

本发明授权一种准分子激光与LIGA工艺结合的微孔结构加工方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种准分子激光与LIGA工艺结合的微孔结构加工方法，其特征在于，包括： 步骤S1，基板预处理，在金属基板表面依次涂覆光敏胶层，其中底层为SU-8厚胶，厚度范围为50至200微米，中间介质层为二氧化硅，顶层为PMMA薄胶，厚度范围为1至5微米，形成多层复合光刻胶结构； 步骤S2，准分子激光光刻，采用KrF准分子激光结合衍射光学元件掩模进行投影曝光，通过动态调整激光扫描半径和能量密度梯度，实现孔径锥度可控的高深宽比微孔结构，所述步骤S2中，采用等离子体屏蔽抑制技术，通过在加工区域施加氦气环境，用于减少紫外激光与材料作用产生的等离子体屏蔽效应与提升深孔加工效率；所述准分子激光的波长为248nm，通过精确控制脉冲能量密度和频率，进行微孔结构的高精度加工； 步骤S3，显影与电铸模具制备，采用四甲基氢氧化铵显影液显影后形成三维光刻胶模具，随后在氨基磺酸镍电解液中进行电铸，填充微孔结构并形成金属模具； 步骤S4，注塑成型与脱模，采用高温注塑工艺将聚醚醚酮注入金属模具，冷却后通过超声波振动剥离获得微孔结构。

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